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定向自组装(DSA)

互补的光刻技术。
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描述

DSA是一个互补的光刻技术。pre-pattern一起使用时,可以自动将嵌段共聚物的取向,最终打印的DSA可以减少螺距结构。使用193纳米光刻,DSA证实模式结构的能力降至12.5纳米。行业也正致力于新一代高气材料,这可能会延长技术超出12.5海里。

DSA作品,简单地说,利用不同的表面能量块组件的丙烯(BCP)如PS-b-PMMA(保利(styrene-block-methyl丙烯酸甲酯))。这两个组成部分是相互排斥,在缺乏定义表面模式将形成一个所谓的“指纹”形态,与交替域B聚合物和聚合物的涂层表面形成弯曲模式。Pre-patterns,形成了通过化学表面条纹(chemoepitaxy)或物理战壕(制图外延法),用于定义聚合物结构。通过提供良好的表面聚合物或聚合物B, pre-pattern约束BCP材料形成线条和空间,接触孔,或任何可能所需的特性。缺陷可以从pre-pattern缺陷或变化的结果,在BCP材料,或隔离的一步。其中,DSA隔离缺陷是独一无二的,而其他人是熟悉从传统光刻过程。

DSA过程还相当不成熟,公司对其可行性结论大规模生产是困难的。看来,最常见的问题,如粒子和点缺陷,可能是由于不成熟的流程和材料,会随着时间的推移变得不那么频繁。虽然DSA-specific缺陷确实存在,但它们的数量很少,并且不太可能对采用这种技术构成严重的障碍。至少在短期内。可伸缩性的DSA更小的特征尺寸的过程仍然是一个悬而未决的问题。如果小的特性需要新材料系统,这些问题可能不得不为每个流程节点。

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