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Nanoimprint光刻

一个炎热的压花过程类型的光刻技术。
受欢迎程度

描述

Nanoimprint光刻(NIL)类似于热压花过程,使精细结构特征。在零,所需的结构图案到主模板或模具。模板的使用电子束或扫描仪。然后,NIL工具,模板所需的模式是压成薄抵制衬底上。删除模板,从而复制衬底上的模式。

Nanoimprint是划算的,接触技术,不需要昂贵的光学和多个模式。但技术有一些问题defectivity而言,覆盖和吞吐量,防止它成为主流光刻技术。今天,NIL主要用于non-semiconductor应用程序,但是已经被东芝的平面与非3 d NAND在地平线上。其他市场包括光子学和生物技术。

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