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CD-SEM:临界尺寸扫描电子显微镜

CD-SEM或临界尺寸扫描电子显微镜,是测量的工具功能维度光掩模。
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描述

扫描电子显微镜、扫描电镜测量通过发送一个电子束,在材料与电子扫描。发回的信号,由设备映射。需要映射的关键维度越多,越需要处理的数据量和存储。

一般来说,临界尺寸扫描电子显微镜(CD-SEMs)是主力计量工具面具店。

CD-SEM足以衡量传统面具的形状。但CD-SEM可能挣扎,也可能不工作,在转向更复杂的图案和形状的面具。最复杂的面具没有统一模式cd光学邻近校正后(OPC)或逆光刻技术(ILT)。

的确,在面具计量有几种挑战,特别是CD-SEM。首先,面具制造商必须采取与CD-SEM测量比以往任何时候都多。此外,掩模缺陷问题的数量标记在面具检查增加,但并不是所有这些会导致产生问题的晶片。

此外,CD-SEM文件以几十或几百个字节。能够解释这么多数据需要更高层次的抽象。没有强大到足以处理设备在一个合理的时间框架,并没有办法快速检索这些数据。在数据术语中,它必须是开采是有用的。

,这个问题日益恶化与finFETs CD-SEM延伸到其局限性。大约75%的检查一个3 d晶体管可以通过使用传统CD-SEM,根据IBM。但这仍然留下了大量的信息,没有解决方案使用基于图像的工具。作为设备几何图形继续萎缩,和更多的特性和功能被添加到死,变得越来越麻烦。

这导致了一个搜索的新方法,如原子力显微镜和一些不同的检验方法的混合动力车。


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