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标签:光学邻近校正

多波束面具作家是一个改变游戏规则
通过简•威利斯12月- 22,2022 -评论:0

eBeam倡议的第11届名人调查在2022年公布了强劲采购预测多波束面具作家,使两种EUV和曲线光掩模的增长。一个专家小组讨论剩余曲线光掩模采用壁垒在事件与其他方法相比光掩模技术会议在9月下旬。行业杰出人物代表44伴随矩阵……»阅读更多

缩放,先进的包装,或两者兼而有之
通过埃德·斯珀林- 01年8月,2022 -评论:0

芯片制造商正面临越来越多的挑战和权衡前缘,在收缩过程已经过高,成本上升。虽然在理论上是可能的大规模数字逻辑10埃(1纳米)下面,平面SoC的可能性正在开发节点似乎越来越不可能。这不是令人震惊的听到这类行业公关……»阅读更多

正确的项目是光掩模采用深度学习的关键
通过简•威利斯- 2月17日,2022 -评论:0

深度学习(DL)已经成为许多公司的成功不可或缺的一部分。有很多论文和一些报道的成功在半导体制造,然而只有22%的名人参加2021年eBeam倡议名人调查看到DL作为光掩模的竞争优势使到明年,如图1所示。看图表,名人相信…»阅读更多

光掩模挑战3 nm和超越
通过马克LaPedus1月25日,2022 -评论:1

专家们表:半导体工程坐下来讨论光学和EUV光掩模问题,以及面具业务所面临的挑战,与直Hayashi DNP研究员;彼得•巴克MPC &掩模缺陷管理主任西门子数字行业软件;资深的技术战略总监布莱恩Kasprowicz球兰;和阿基》d2的首席执行官。f…»阅读更多

逆光刻技术:30年从概念到实际,全芯片的现实
通过技术论文链接- 01年10月,2021 -评论:0

发表在《微/ Nanopatterning,材料,和计量,2021年8月31日。阅读完整的技术论文(开放)。文摘在光刻技术,光学邻近和过程偏差/效果需要纠正达到最佳的晶片打印。努力纠正这些影响开始用一个简单的偏见,添加一个锤头在预防行结束缩短行结束。T…»阅读更多

追求曲线光掩模
通过马克LaPedus——4月15日,2021 -评论:1

半导体产业上取得明显进展高级曲线光掩模的发展,对芯片设计技术,有着广泛的含义在最先进的节点和能力制造这些芯片更快、更便宜。现在的问题是,当将该技术超越niche-oriented地位,加大进入量产阶段。因为你们…»阅读更多

下一个人工智能,芯片和面具
通过马克LaPedus11月19日,2020 -评论:0

阿基》的首席执行官d2,坐下来与半导体工程讨论人工智能和摩尔定律,光刻、光掩模技术。以下是摘录的谈话。SE: eBeam计划最近的知识渊博的调查中,参与者产生了一些有趣的观察光掩模的前景的市场。这些观察是什么?Fujimur……»阅读更多

面具/成熟的光刻技术问题节点
通过马克LaPedus10月- 22,2020 -评论:0

半导体工程坐下来讨论光刻和布莱恩Kasprowicz光掩模问题,技术总监和策略和一个杰出的成员在光电池的技术人员;哈里·莱文森HJL光刻技术负责人;资深技术专家平Nakayamada NuFlare;和阿基》d2的首席执行官。下面摘录的对话……»阅读更多

机器学习可以做什么在晶圆厂
通过马克LaPedus- 3月25日,2020 -评论:0

半导体工程坐下来讨论这个问题和挑战与机器学习在半导体制造业Kurt Ronse在Imec先进光刻项目主任;渔洞,高级营销主任到创新;数据科学家罗曼Roux Mycronic;和阿基》d2的首席执行官。以下是摘录的谈话。唐森:…»阅读更多

与EUV掩模制造问题
通过马克LaPedus- 10月17日,2019 -评论:0

半导体工程坐下来讨论光刻和布莱恩Kasprowicz光掩模的趋势,技术总监和策略和一个杰出的成员在光电池的技术人员;托马斯•Scheruebl蔡司战略业务发展和产品战略主管;资深技术专家平Nakayamada NuFlare;和阿基》d2的首席执行官。符合什么……»阅读更多

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