表征嵌入在不透明金属薄膜下的覆盖层和对准模式的另一种方法。
光学不透明材料在磁随机存取存储器(MRAM)的半大马士革工艺流程或磁隧道结(MTJ)处理后的对准和叠加方面提出了一系列挑战。在所有多层图案工艺流程中，平版印刷定义的图案在图案和底层之上的叠加和对齐是器件操作的基础。有各种各样的光学技术和专门设计的目标，用于解决这一问题在常规流。通常，紫外线、可见光或红外光通过顶部光刻胶层或蚀刻硬掩模耦合到底层。然而，在一些MRAM流中，这种耦合可能是不可能的，因为中间可能有一个不透明层。在这种情况下，传统的光线校准方法就失效了。为了克服这个问题，可以使用额外的图案操作来打开对齐特征周围的区域，但这些操作会增加大量的工艺成本。
在本文中，我们评估了使用皮秒激光声学(PLA)测量作为一种替代方法来表征嵌入在不透明金属薄膜下的覆盖和对准模式。我们为这项研究选择了MRAM工艺流程，其中不同的叠加和对齐标记位于不透明层(包括MTJ层)下面。这些特定的标记是在PLA的帮助下成像的，PLA使用泵浦和探头配置中的超快激光来产生和检测能够通过光学不透明层传播的声波。该技术与其他声学成像技术(如扫描声学显微镜(SAM))形成鲜明对比，不需要将样品浸泡在水等耦合介质中。
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