引导先进的流程设计工具

设计实现的复杂度的增加促使制造商优化设计过程。新的工具和技术,由于新一代的硬件和软件,为半导体晶片设计提供了一个新的平台。先进此后铸造厂开发的解决方案,优化设计过程中,利用和重用知识产权(IP)和其他通用或专用流程构建块。这篇文章将解释什么是此后,如何实现的,并使用设计规则约束PKD中的工具,为例。

此后是什么?
流程设计套件包含一组文件通常包含描述过程的基本构建块。他们表示,从算法上,如Pcells。这些描述存储在标准化Pcells库、设计规则和规则约束,图表,香料的晶体管模型和其他组件和布局信息。他们是用来描述,准确地说,制造流程细节设计师和设计工具。文件的内容会有所不同取决于目标组件,但是它们都是基于GDSII流格式。

此后化身可以包含任意数量的自动程序和规则。例如,安排和路由可编程的细胞和细胞排列和分析互连布线优化制造业。其他方法可以执行线分析和位置,以防止短路。在其他规则,接触和通过将优化的可靠性通过增加或减少额外的金属化接触和通过周围的地区。仍然在其他情况下,多余的接触和通过可能增加优化有效的可制造性。或者,设计和布局的改进可以使细胞以迭代方式。

此后会有所不同取决于特定的设备本身和它们各自的模型。此后通常是特定于每个铸造和特定的项目或技术。先进此后包含专业或专有数据和/或功能,。大型铸造厂可以提供一个前后的集成定制设计环境,支持所有主要的电子数据(EDA)供应商的设计流程。洛伦兹的解决方案,主要供应商包括Synopsys对此Helic,抑扬顿挫,导师图形,Ansys-Apache等等。

此后的原因已经成为当今半导体设计的实际设计方法是由于复杂性和比重,密集的和新组件的设计技术。简而言之,此后自动做设计修改的修改和验证复杂的半导体的设计。这已经过时的传统的自上而下的方法支持一个新的“平行开发”,此后实现验证方法。

高水平概述——它们是如何工作的
此后,和商店,每个组件的“表示”。这表示被定义为标准的规则如晶体管的最小通道长度、井间间距,最低金属宽度和金属间距、静电放电(ESD)和I / O的规则。自动限制适用的扩散面积和周长的组件,设置最小和最大特征尺寸的限制和验证热点可以表示的一部分,。

此后的目的是自动调整,根据参数的数据存储在文件中,可生产性、可制造性设计布局。举个例子,如果一个特定PKD设计规则应用于接触面积,如果它是由大的设计师,特定的设计规则约束(DRC)为这个组件可能指示创建额外的接触机会,其他一些移除,或现有的或新的大小,等等。这是如何定义在此后的具体实现。此后还将自动设置这些限制的设计师,将只允许某些参数在评估不同的设计。这取决于特定的参数定义在特定的科索沃民主党。这种方法的优点是,最终的设计是保证完全符合生产流程。这简化了设计过程,最大限度地提高生产率和降低成本,为客户提供最大价值。

在战壕里——理解过程的复杂性
今天的流程变得复杂得难以想象。设计师优化,不可能手动、半导体和其他组件设计的效率。今天的复杂流程包括功能,如双模式,双重压力衬垫和曝光通过。反过来,这使越来越多的设计规则的必要性,进而,要求更严格的一致性控制。这意味着所有的布线后的验证复杂得多,并且不能验证没有edge-of-the-envelope EDA软件。因此,唯一可行的方法是使用此后。

一个典型的科索沃民主党将有许多模块与此后。这些包括

• 设备模型,解决浅槽隔离(STI),以及邻近效应热电制冷和性能。
• 设计制造(DFM)意识,实现设计规则约束(DRC), CFM规则和填补的一代
• 流程和方法,分析和实现的功能设计,验证和优化和制造签收。
• 光刻/ OPC,执行热点验证,得病的重新设计和印刷适性。

所有这些模块与此后必须同步,添加另一个设计流程的复杂程度。今天的科索沃民主党是一个不同的方法,更多的“整体”的集成,其中每个外围过程优化和同步特定的技术或产品设计流程。向下,有半导体参数规模和密度增加,需要额外的功能被集成到此后。

此后一个先进的元素的一个例子——设计规则的约束
设计规则约束在此后的一个关键过程。设计规则约束的基本原则是限制VLSI(超大规模集成)电路设计标准化的物理和电气制造标准。

今天的组件小型化和密度技术需要不断重新评估的最佳应用程序保持设计几何图形与现实的制造能力。尽管刚果民主共和国二维布局模式可能是兼容的数学和布局规则,当他们生产过程应用于极端的公差,石版印刷适性问题仍然出现。

先进的刚果民主共和国是为了识别2 d模式异常在设计流程的各个阶段期间,不仅在设计过程的早期阶段。先进的刚果民主共和国函数以相同的方式作为传统设计限制的应用程序。然而,它添加的功能关联每个约束的二维模式,它充当一个过滤器来本地化应用约束。这就是说,在刚果民主共和国工具正在运行,刚果民主共和国统治甲板。它将执行更严格的约束只在异常发生。对于这个讨论,tip-to-side模式。

一个例子是当一个典型的u型微量放下在衬底和可制造性约束。刚果民主共和国等有规则收紧min_space + 20海里行结束空间约束的u型模式。此规则的原因各不相同,但它并不重要对于这个讨论以外的假设一个更严格的比标准规则是必需的。对于这个讨论,技术必须限制制造能力,所以此后的刚果民主共和国包含规则。此后的优势整合刚果民主共和国在这是因为它可以严格设计几何图形没有任何内在的理解底层的制造工艺过程。因而,设计可以进行可制造性标准,无论设计本身。

指前面提到的u型轨迹,认为感兴趣的参数是side-to-tip模式。每个刚果民主共和国规则包含一个特定的tip-to-side模式,和一个优先规则。首选的规则更严格的约束应用于这种模式的情况下,由于不同的设计条件。在这种情况下,标准间距可能在较低的工作频率,但同样的设计被认为是使用更高的数据速率或频率。设计分析表明60纳米的标准参数可能导致串扰或intermod影响相邻的新频率,电路的一些痕迹。

设计工程师将回去返工accordign首选规则analyitcs和重新定位或返工痕迹,可能会发出电磁(EM)或无线(RF)在新频率干扰。

更详细一点
一旦设计做出了修改,刚果(金)是用来确定印刷适性和工艺性。例如,首选的刚果民主共和国的科索沃民主党实行更严格的约束规则≥80海里。这是通过首先使用刚果民主共和国识别模式配置和开发情况设计类提取模式的代表。一旦提取,直方图的情况这些类课程开发和评估基于排列和事件。

下一步是确定哪些情况类都低于普通的印刷适性。这些类,根据所需的约束,确保印刷适性,成为刚果民主共和国规则上面提到的候选人。接下来,一个度量称为design-induced边缘印刷可变性(DIEPV)是用来确定每个类的印刷适性。DEIPV基本上代表了印刷错误的窗口过程对于一个给定的情况——DIEPV级越大,越可能是印刷错误。确定哪些情况类候选人刚果民主共和国规则,可以实现一个简单的阈值算法,比较每种情况的DIEPV统计类的值总体布局。一个算法已经应用的数据可以显示图形进行分析。

铸造此后和刚果民主共和国兼容传统学科与前沿代EDA(电子设计自动化)工具。这个讨论的主题,口径将引用。Calibre的刚果民主共和国equation-based功能提供了如何解决违反的具体建议。物理验证平台的集成到物理设计环境中,大部分的维修可以自动完成物理设计工具本身,如路由器。

刚果民主共和国使用情况的统计数据来源于测量类代替简单的CD(临界尺寸)或EPE(边缘位置错误)阈值用于经典印刷适性验证。通过识别这类情况不好印刷适性统计,刚果民主共和国规则可以通过算法确定。工具,提供快速模式匹配功能使刚果民主共和国的实现简单。对用户来说,这是主要的问题更新标准的刚果民主共和国规则甲板与刚果民主共和国扩展基于模式的规则提供了一个特定的铸造。

上面讨论了此后的一个元素和提出一个场景的刚果民主共和国+使用,通过模式分类算法,描述设计变化。在新技术这样一个20海里,传统设计规则往往局限于优化设计流程,不解决新设备和参数。这就是为什么其他工具功能超越传统的EDA工具的开发。

刚果民主共和国和图形设计规则手册
刚果民主共和国一旦运行一个实现了设计约束,如果需要,可以提出设计错误。通常的原因是复杂详细的错误可以令人困惑,特别是如果它一些新的设计师或一个不熟悉的参数。为此,铸造厂开发了图形设计规则手册(GDRMs)。

这样每个设计规则手册提供了一个图形化的图片,和有关,在这种情况下,口径RVE文件。刚果民主共和国甲板运行时,如果发现一个错误在RVE文件和需要进一步调查,选择错误的GDRM将特定的错误解释的设计师和位置。这有助于优化设计流程效率,减少调试时间和价值最大化。结果是,全球GDRM为设计师提供了一个路线图,艾滋病在优化时间和设计效率。

刚果民主共和国的灵活性和客户集成
最后,流程设计工具开发和设计重点。刚果民主共和国的价值优化工具,他们必须能够结合客户的知识产权。Customer-developed IP是一个非常有价值的资产,并在许多情况下,独特的设计。GlobalFoundries此后非常强大,可以在客户端上运行刚果民主共和国IP,使用发布候选甲板上。当然,需要密切合作的IP块定义为与此后集成。

结论
本文对此后一直是一个中层的讨论,他们的一些变种,它们是什么以及它们的功能。它有钻研细节过程复杂性和它是如何解决在此后的工具。它已经在进一步介绍工具的一个例子在此后,特别是刚果民主共和国工具和他们是如何实现的。希望读者会带走一个基本的理解和在设计过程中。