优化工具集成设计的成功至关重要


由詹姆斯•巴黎和Asatryan地方之间的关系和路线(不)应用程序和芯片系统(SoC)设计实现的集合,分析和验证的方法和工具一直是一条双行道。不具有系统的基础,如果你愿意,设计的实现需要虚拟和物理。然而,它是使用…»阅读更多

设计制造的最佳实践


制造问题的一个最重要的原因是我们看到保证回报和电子行业市场份额的损失。诸如供应链失败和印刷电路板组装(PCBA)生产挑战相关的设计会导致不可挽回的损害一个品牌的声誉。因此至关重要,企业对可制造性设计(DfM)协议我…»阅读更多

多聪明的制造


智能制造业正在经历一些根本性的变化随着越来越多传感器集成在晶圆厂产生更多的可用数据,和AI /毫升系统部署到筛选数据和识别模式和异常更快。智能制造的概念——也被称为工业4.0在欧洲,第四工业革命——从世界经济…»阅读更多

生产速度和敏捷性通过交钥匙HPC的解决方案


制造商面临日益激烈的竞争,新玩家进入全球市场。领先竞争对手,他们越来越依赖数码产品设计、建模与仿真工具分析和测试的帮助下HPC和CAE。所以如何HPC使制造商从小型到大型的创新?本白皮书介绍:使用HPC加速产品发展……»阅读更多

最晚完成日期快流模式匹配和机器学习可以更快地交付高收益的设计


Wael ElManhawy和乔关颖珊光刻(平)热点是创建一个缺陷在晶片制造的组合系统的过程中变异和分辨率增强技术(RET)的限制。平热点通常代表严重的收益率批评者,所以之前检测和消除潜在的平热点制造业实现com至关重要……»阅读更多

周评:物联网、安全、汽车


产品/服务的导师,西门子的业务,宣布英勇的最后阶段软件的发布新产品介绍design-for-manufacturing技术,自动化印刷电路板设计评论。公司拥有DFM技术集成到Xpedition软件应用程序布局。Arteris IP报道,东芝已经贴出下一代先进driv……»阅读更多

Mashup 7海里


合并两个标准组织通常远低于大多数工程师的雷达,但折叠ESD联盟(原名EDA财团)半是一种不同的协议。自从finFETs和多个模式的引入,EDA工具已经成为不可分割的一部分,新的制造工艺的发展。没有这些工具,就没有阿宝……»阅读更多

多模式问题7海里,5海里


继续依靠193海里浸没式光刻与多个模式变得更加困难,7和5 nm。在各种分辨率增强技术的帮助下,光学光刻用深紫外准分子激光是主力模式技术在工厂自1980年代初。它是如此紧密地联系在一起的延续(getkc id = " 74 "评论= "莫…»阅读更多

一个新颖的方法来使用Calibre SmartFill假填补模拟设计


用小几何硅过程,需要额外的非功能性的几何结构来维护层平面性在化学机械抛光(CMP) /阶段的处理。自动布局流生成这样的几何图形往往是设计主要是为大型系统芯片(SOC)数码设计。当应用于混合信号的布局,这些流已经见过哈…»阅读更多

容量约束和DFM在成熟的节点


我们正在见证一个有趣的现象今天在SoC的半导体行业。人们叫它“强迫瀑布效应。“我指的是倾向于生产半导体节点比在长期铸造能力约束下的前沿。通常这发生的“热过程节点,”也就是说,前缘wh……»阅读更多

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