CMP如何影响混合信号布局和提防。
用小几何硅过程,需要额外的非功能性的几何结构来维护层平面性在化学机械抛光(CMP) /阶段的处理。自动布局流生成这样的几何图形往往是设计主要是为大型系统芯片(SOC)数码设计。当应用于混合信号的布局,这些已经见过流问题在交付所需的层密度,和保持对称设备匹配的灵活性。本文描述了一个新颖的方法,虚拟模式可以很容易地定制和控制从设计输入系统,并用于驱动Tcl-programmable Calibre SmartFill引擎允许的灵活性要求添加虚填满各种各样的模拟布局风格。
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