内幕指南光掩模

半导体工程坐下来讨论光掩模光刻和富兰克林石灰,在凸版光掩模技术的执行副总裁,一个商人光掩模供应商。以下是摘录的谈话。

SE:这些天热在掩模技术是什么?

石灰:从边缘像EUV更成熟的制造业。成熟的一面,我把它比作未来物联网的兴起。物联网仍是这种模糊的潜力和新的应用程序的质量。你不需要14 nm使物联网设备。

SE:物联网芯片(物联网)涉及200 mm晶圆厂,对吧?

石灰:200毫米晶圆厂正在复苏。他们的腿,腿一段时间。很多公司有200 mm晶圆制造能力。很多人正试图找到一些购买和建造这些东西的能力。

SE:凸版光掩模对后缘面具的需求吗?

石灰:我们肯定有生产能力的面具给90 nm和范围。我们对此表示欢迎。在中国,这是我们在quarter-micron功能。1997年以来我们一直在中国。工厂1,正如我们所说的,是在上海。它是关于quarter-micron工厂。我们只是建造工厂2旁边,开始几个月前。这是一个90纳米线,可以扩展到65海里,外加两个计量工具。在中国有很多需求。

SE:接下来是什么凸版的面具在中国商店吗?

石灰:房间里,工厂现有洁净室中扩展到65海里。但同时,我们可以双我们刚刚安装的能力。我们也有扩张能力的另一个等价的洁净室大小相同的建筑。这不是一个65纳米工厂。,下一步可能会更像40 nm或28 nm制程能力。我们有很多人现在要求我们这样做。

SE:让我们搬到前沿。我们与EUV哪里?

石灰:印刷质量的EUV不是一个问题了。但你仍然有相同的三个障碍。有一个来源。我会叫它源+光学进入生产。有另一个在抗拒。这是经典的敏度或直线边缘粗糙度之间的权衡,分辨率和速度。还有面具。这是一直对缺陷管理。

SE: EUV光源吗?

石灰:它可以运行在一个合理的水平。但我不会叫它处于高水平。是80瓦的一个月时间。这是一个大问题。收集器仍光学降解较快。但这不是一天一次。

SE: EUV掩模空白?

石灰:空白是越来越好,但是他们没有得到极大的更好的在过去几年。真正改变的是我们如何管理缺陷。这个行业是利用模式转向占缺陷。密度足够低,您可以使用模式变化和产量有很高的空白。

SE:我们需要EUV掩光化性检验吗?

石灰:是一回事,我称之为一座桥的策略。在这种情况下,您正在做的低容量面具。你可以使用一块堆技术和他们在一起的方法,给我一个好质量缺陷的面具。在某种程度上,但是,你不能那么做。你需要光化性检查。到目前为止没有人的工具。我们会拥有它。但是我不确定谁该工具制造商。给定的成本减少其中的一台机器来练习,最终它会被作为一个扫描仪的成本。它会花费那么多。

SE:我们需要光化性检验把EUV进入大规模生产?

石灰:我不认为它将介绍。

SE: EUV薄膜吗?

石灰:我很乐观的薄膜坚果可以在接下来的几年中被破解。这是没有更多的科学项目。这是一个工程项目。

SE:使用EUV是否有意义?

石灰:在10纳米逻辑,粗略地讲,一个金属层是三个面具。在7海里,它的四个面具。如果你能替换三个四个面具EUV,这是一个真正的节省的时间和金钱。这是一个工厂的负荷。

SE:凸版已经开发出一种EUV掩码基于一个黑色边框技术。那是什么?

石灰:均开发了一种结构。你腐蚀玻璃然后蚀刻玻璃的一种模式。所以基本上衍射图案蚀刻在玻璃上。它导致的带辐射衍射光学接收角。因此它比标准的深黑色的边界。这个想法是为了减少波段反射率。它可以减少70%。从大约4%到5%的反射率更像是1%。

SE:凸版光掩模和GlobalFoundries联合光掩模的风险称为先进的掩模技术中心(AMTC)。它建立在德国德累斯顿。风险与IBM凸版还有一个面具。这些项目的状态是什么?

石灰:AMTC的目标是减少开发和实践前沿的掩模技术。仅仅在过去的一年中,GlobalFoundries购买了IBM的微电子业务。巧合的是,凸版和IBM联合发展项目高级掩模开发,位于佛蒙特州伯灵顿。所以,现在我们有三个研发groups-IBM伯灵顿;在德累斯顿AMTC;在日本大阪和凸版。

SE:接下来是什么?

石灰:他们都是一起工作。这三个是变成一群更有凝聚力。因此,而不是两个独立的努力,我们将AMTC和伯灵顿一起努力。

SE:我假设均保持研发在大阪。结合研发在德累斯顿或伯灵顿吗?还是让这两个位置?

石灰:在所有三个研发设施。一个在大阪更专注于某些类型的研发。他们也做制造业的发展。伯灵顿更我所说的基本技术。他们有材料专业知识。与EUV AMTC具有良好的历史。我们会关注EUV AMTC东西。

SE:制造呢?

石灰:的前沿,它在日本大阪。伯灵顿以及德累斯顿制造业。

SE:凸版加大今天是什么技术?

石灰:均有14 nm在制造业。10 nm是非常高级的发展阶段。7海里不是一个婴儿。但它仅仅是一个蹒跚学步的孩子。

SE:面具制造商的资本支出的趋势是什么?

石灰:最大的资本支出项目往往是检验工具。然后写作工具。幸运的是,这些工具可以使用多个技术周期。不过,随着EUV事情改变了很多。你需要一个目标的工具,可以在光化性的基础上工作。我们不谈论500万美元或1000万美元的目标的工具。我们说的更像5000万美元类型的东西。这是非常昂贵的。我们看到曲棍球棒的资本支出,当我们看EUV取决于工具实际上是放在面具工厂。它让我们暂停。

SE:看来俘虏面具商店将斜坡EUV掩。商人玩家呢?

石灰:我们知道我们不会第一个制造商大批量EUV掩。最终,该行业将要求我们这样做。然后,我们必须面对我们想花多少资本支出的方程。

SE:你能建立EUV掩?

石灰:我们可以建立EUV掩在大阪,伯灵顿和德累斯顿。在德累斯顿,我们一直以来2006年或2007年。我们产生了很多。在这一点上,我们有一个相当可靠的过程了。

SE:俘虏面具商店似乎做了很多今天的前沿技术。他们似乎把份额从商人,对吧?

石灰:这可能已经持续了10年了。15年前,商人被美元全球业务的65%面具体积。现在,俘虏也超过50%。现在的技术要求是如此之强。如果你做晶圆在14 nm,它几乎是必要的,你现在有面具制作能力。这是一个战略资产。这并不意味着他们不工作与商人面具制造商像凸版。GlobalFoundries就是一个很好的例子。三星也相当数量的工作“外包”给了商人。

SE:商人面具制造商如何适应今天的生态系统?

石灰:我们提供许多好处。首先,我们有很好的开发能力。我们还提供了可以考虑地震的策略。如果有人地震及其面具店下降,他们做什么?我们也提供过负荷能力。如果你可以买浪涌能力需求,那么这就是一件好事。这是一个我们和GlobalFoundries的关系的重要组成部分。他们有内部功能。但他们可以依靠我们来生产他们所需要的,当他们需要它。

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