标签:凸版光掩模

光掩模短缺增长成熟的节点
通过马克LaPedus- 4月21日,2022 -评论:2

成熟的节点对芯片需求激增,加上老化photomask-making设备在这些几何图形,引起重大关注整个供应链。这些问题最近才开始浮出水面,但他们为光掩模尤其令人担忧,这对芯片生产是至关重要的。为光掩模制造能力尤其紧28 nm及以上,推高了…»阅读更多

想要的:面具成熟的设备节点
通过马克LaPedus- 10月18日,2018 -评论:0

需求增加芯片在供应链成熟节点影响光掩模,导致对后缘面具的巨大需求和一个年长的面具设备的不足。最大的问题是设备不足,可能会影响客户在若干领域。工具短缺可能会导致长面具周转时间和交付时间表在90纳米以上芯片开发,是布鲁里溃疡…»阅读更多

多波束市场升温
通过马克LaPedus——3月17日,2016 -评论:3

多波束电子束面具作家业务正在升温,随着英特尔和NuFlare分别进入新兴市场。在一个惊人的举动,[getentity id = " 22846 " e_name =“英特尔”)收购IMS奈米制造的过程中,一个[gettech id = " 31058 " t_name = "多波束电子束"]设备供应商。,另外,电子束巨头NuFlare最近披露其新多波束面具作家t…»阅读更多

内幕指南光掩模
通过马克LaPedus——3月17日,2016 -评论:1

半导体工程坐下来讨论光掩模光刻和富兰克林石灰,在凸版光掩模技术的执行副总裁,一个商人光掩模供应商。以下是摘录的谈话。SE:这些天热在掩模技术是什么?石灰:从边缘像EUV到更成熟的制造业。在成熟的如果……»阅读更多

高钠EUV光刻可能需要更大的光掩模的大小
通过杰夫Chappell——7月18日,2013 -评论:0

通过杰夫Chappell极端紫外线光刻技术(EUV)可能被用于试点生产几年后,它提出了一个问题:大光掩模的大小会行业需要他们,如果是这样,什么时候?虽然已经讨论了可能需要过渡到一个更大的面具的大小,退伍军人面具的业务可能会觉得我有似曾相识的感觉。回来……»阅读更多

商人光掩模制造商仍然相关
通过杰夫Chappell- 20,2013 -评论:0

杰夫·Chappell多年半导体行业的趋势光掩模和芯片制造商是剥离俘虏面具业务支持商人光掩模供应商。这反映了一个更大的趋势一直与许多公司远离垂直整合供应链,因此,铸造模型了。“这主要是由成本consideratio……»阅读更多

挑战成长的EUV
通过埃德·斯珀林- 10月18日,2012 -评论:0

由马克LaPedus在1990年代末,一组由英特尔推出了一个联盟来推动极端紫外线(EUV)光刻技术成为主流。最初,该财团,被称为EUV LLC设想的出现EUV扫描仪将进入生产的65 nm节点。很明显,现在财团与EUV低估了困难和挑战。ASM……»阅读更多

束我
通过埃德·斯珀林- 10月18日,2012 -评论:0

由马克LaPedus多年来,电子束工具一直在努力跟上光掩模的复杂性,造成了惊人的面具写时间和生产成本的增加。英特尔和其他最近警告说,电子束很快可能达到他们的基本限制,因此需要新的解决方案的必要性。和在多个模式时代,面具制造商可以看到其资本成本soa……»阅读更多

在面具后面
通过埃德·斯珀林- 10月18日,2012 -评论:0

由马克LaPedus半导体制造与设计坐下来讨论当前和未来的光掩模制造挑战与富兰克林石灰,执行副总裁兼首席技术官凸版光掩模,世界上最大的商船面具制造商之一。SMD:光掩模行业的前景在2012年增长2%。你同意了吗?石灰:……»阅读更多

面具修复进入聚光灯下
通过埃德·斯珀林- 10月18日,2012 -评论:0

由马克LaPedus多年来,光掩模制造的最大挑战围绕着慢写时间电子束工具和面具检查成本飙升。现在,光掩模修补,面具商店,有时忘记技术是在聚光灯下,变成《诸神之战》。面具修复涉及光掩模的过程中发现的缺陷和repairin……»阅读更多

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