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标签:面具

解决物质波光刻反问题的ML体系结构:LACENET
通过技术文件链接- 2022年8月29日-评论:0

最近，卑尔根大学(挪威)的研究人员发表了一篇题为“通过机器学习生成物质波光刻的逼真掩模”的技术论文。摘要:“快速生产具有纳米分辨率的大面积图案对于现有的半导体行业以及实现下一代量子器件的工业规模生产至关重要。Metasta……»阅读更多

为什么掩码空格很重要
通过马克LaPedus- 2021年10月21日-评论

Hoya Group的Hoya LSI总裁Geoff Akiki与Semiconductor Engineering公司坐下来讨论光学和极紫外(EUV)光刻以及掩模坯。以下是那次讨论的节选。掩模坯料是作为掩模的基板或衬底的组件。为什么它们很重要?Akiki:如果你看看Hoya，我们一直被定位为……»阅读更多

新颖的蚀刻技术利用原子层工艺先进的图案
通过电话- 2020年12月17日-评论:0

我们展示了高选择性和各向异性的Si3N4和SiC等离子体蚀刻。所演示的过程包括一系列的离子改性和化学干燥去除步骤。H离子修饰的Si3N4腐蚀对SiO2和SiC薄膜具有较高的选择性。此外，我们还开发了氮离子改性SiC的选择性蚀刻技术。另一方面，在模版蚀刻过程中，…»阅读更多

2019-2020年口罩制造商调查结果
通过eBeam倡议- 2020年10月21日-评论:0

eBeam倡议2019-2020年掩模制造商调查的调查结果。•与去年相比，10家不同的公司报告了558,834个掩模•使用多波束掩模写入器编写的掩模增加了一倍以上•EUV掩模产量报告为91%•前沿节点的MPC使用量增加。»阅读更多

一周回顾:制造，测试
通过马克LaPedus- 2019年9月20日-评论:0

据eBeam Initiative发布的最新调查显示，随着极紫外(EUV)光刻技术进入生产阶段，该技术的置信水平继续增长，但EUV掩模基础设施仍然好坏参半。D2S开发了新的硬件和软件，实现了期待已久的技术——使用反光刻技术(ILT)的全芯片掩模. ...»阅读更多

光掩模内部指南
通过马克LaPedus- 2016年3月17日-评论

《半导体工程》杂志与Toppan photomasks(一家掩模供应商)技术执行副总裁Franklin Kalk坐下来谈论掩模和光刻技术。以下是那次谈话的节选。SE:目前掩模技术中最热门的是什么?Kalk:从EUV这样的尖端技术到更成熟的制造技术，一切都是如此。在成熟的si…»阅读更多

EUV掩模仍存在缺口
通过马克LaPedus- 2015年10月2日-评论:4

极紫外(EUV)光刻技术再次处于关键时刻。这项经常被推迟的技术现在正朝着7纳米方向发展。但在EUV投入大规模生产之前，仍有许多技术必须结合在一起。首先，EUV光源必须产生更多的功率。其次，工具正常运行时间必须改善。第三，该行业需要更好的EUV电阻。一个……»阅读更多

值得关注的5项技术
通过马克LaPedus- 2015年7月23日-意见:0

该行业正在开发一系列令人眼花缭乱的新技术。事实上，现在出现了比以往任何时候都多的创新技术。这样的例子数不胜数。至少从我的角度来看，我已经列出了2015年及以后最值得关注的五大技术。他们是按字母顺序排列的。(见下文)。显然，有不止五种技术…»阅读更多

EUV口罩面临的挑战越来越多
通过马克LaPedus- 2013年10月17日-评论:0

阿斯麦控股公司的第一批用于极紫外(EUV)光刻的量产扫描仪预计将于今年上市，但要将该技术引入大批量生产仍存在许多挑战。与之前一样，EUV面临的三大挑战是电源、电阻和掩模。到目前为止，电阻正在取得进展，而EUV电源仍然是一个…»阅读更多

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