内幕指南光掩模


半导体工程坐下来讨论光掩模光刻和富兰克林石灰,在凸版光掩模技术的执行副总裁,一个商人光掩模供应商。以下是摘录的谈话。SE:这些天热在掩模技术是什么?石灰:从边缘像EUV到更成熟的制造业。在成熟的如果……»阅读更多

对EUV掩依然存在差距


极端紫外线(EUV)光刻再次在一个关键时刻。oft-delayed技术目前正在针对7海里。但仍有许多技术大规模生产之前必须一起EUV插入节点。首先,EUV光源必须产生更多的力量。其次,工具正常运行时间必须得到改善。第三,行业需要更好的EUV抗拒。一个……»阅读更多

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