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系统产量问题现在是高级节点的首要任务


系统良率问题正在取代随机缺陷,成为半导体制造中最先进工艺节点的主要问题,需要更多的时间、精力和成本来实现足够的良率。产量是半导体制造业中最隐秘的话题,但也是最关键的,因为它决定了有多少芯片可以盈利销售。“在老节点上,b…»阅读更多

高NA EUVL薄阻的计量


高数值孔径极紫外光刻(high NA EUVL)的诸多限制之一与阻光剂厚度有关。事实上,从当前的0.33NA转移到0.55NA(高NA)的后果之一是焦点深度(DOF)的降低。此外,当抗蚀剂特征线缩小到8纳米半间距时,必须限制纵横比以避免图案崩溃。T…»阅读更多

凹凸高度均匀性和三维传感


在添加光刻胶之前,必须实现半导体凹凸高度均匀性的3D传感。但使用传统方法测量镀铜后的均匀性存在挑战,这需要结合3D条纹投影技术和纳米分辨率检测和计量。以下是我们在凹凸高度均匀性案例研究中所学到的内容:»阅读更多

主动学习减少半导体制造中缺陷识别的数据需求


新加坡科学、技术和研究局(A*STAR)的研究人员发表了一篇题为“探索半导体缺陷分割的主动学习”的新技术论文。“在半导体XRM扫描中应用AL时,我们发现了两个独特的挑战:大的畴移位和严重的类不平衡。为了应对这些挑战,我们建议进行对比前训练…»阅读更多

人手:为大批量制造策划良好数据并创建有效的深度学习R2R策略


目前,半导体制造业使用人工智能和机器学习来获取数据,并从这些数据中自主学习。有了额外的数据,AI和ML可以用于快速发现模式并确定各种应用程序的相关性,尤其是那些涉及计量和检验的应用程序,无论是在制造的前端…»阅读更多

PCB x射线检测公开数据集(FICS-佛罗里达大学)


佛罗里达大学佛罗里达网络安全研究所(FICS)的研究人员发表了一篇题为“FICS PCB x射线:自动印刷电路板层间检测的数据集”的技术论文。摘要:多年来,计算机视觉和机器学习的突破为印刷电路自动x射线检测(AXI)铺平了道路。»阅读更多

利用量子DL发现晶圆缺陷


国立清华大学的研究人员发表了题为“混合经典-量子深度学习的半导体缺陷检测”的新研究论文。“随着人工智能和自动驾驶技术的快速发展,半导体的需求预计将大幅上升。然而,半导体制造业的大规模扩张和发展…»阅读更多

汽车集成电路零缺陷的竞赛


组装厂正在对汽车集成电路的方法和流程进行微调,优化从检验和计量到数据管理的一切,以防止逃逸并减少代价高昂的退货数量。如今,在汽车芯片市场上,组装缺陷占半导体客户回报的12%至15%。随着汽车零部件数量从…»阅读更多

工业检验中的深度学习


深度学习是人工智能复杂性的高端,通过筛选更多数据来获得更准确的结果。CyberOptics的研发副总裁Charlie Zhu谈到了如何利用DL与检测一起识别传统计算机视觉算法无法识别的芯片缺陷,从多个角度同时对多个物体进行分类,并考虑到…»阅读更多

向更坚固、更便宜的SiC迈进


碳化硅在功率半导体市场,特别是在电动汽车上,正在获得越来越多的吸引力,但对于许多应用来说,它仍然太贵了。原因很好理解,但直到最近,SiC在很大程度上还是一种利基技术,不值得投资。现在,随着对可以在高压应用中工作的芯片的需求增长,SiC得到了更近距离的关注. ...»阅读更多

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