最低的缺陷计数来自使用5纳米PTFE NTD2过滤器与专有的表面处理。
来自SPIE数字图书馆:
在这项研究中，监测了Si- HMs的金属污染物、液体颗粒计数和晶片缺陷以及过滤去除率，以确定过滤器类型、孔径、介质形态和清洁度对过滤性能的影响。在本研究中使用的具有专有表面处理的5纳米PTFE NTD2过滤器显示最低的缺陷计数。
作者:Vineet Alexander，1Shyam Paudel,1格伦•护墙板2露西娅D 'Urzo,2维吉尔布里格斯,2蒙纳巴伐利亚,3.Rao瓦拉纳西,2蒂姆•荡妇1尼克•Brakensiek1李维Gildehaus,1迈克•Mesawich2道格拉斯·格雷罗州1
1布鲁尔科学有限公司(美国)
2蓓尔公司(美国)
3.内布拉斯加-林肯大学(美国)
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