部署多波束面具的作家

奈米制造的首席执行官埃尔Platzgummer IMS,坐下来与半导体工程讨论与英特尔公司的协议,光掩模、多波束技术作家面具和其他话题。以下是摘录的谈话。

IMS SE:这是一个重大的一年有两个原因。首先,英特尔最近宣布计划收购IMS。第二,在最近有光掩模技术会议,IMS引入了世界上第一个商业市场多波束面具的作家。让我们开始与英特尔。英特尔收购IMS带来什么聚会吗?

Platzgummer:它给我们的技术带来了关注。正如您所观察到的,我有两个角色。在过去的几年,我开车的技术。但我也是筹集资金,解决我们的伙伴关系的选择。现在,我们定居在一个很强的融资合作伙伴的背景。这对我们来说是非常好的。

IMS SE:它也带来了更多的资源,对吧?

Platzgummer:我们现在更有针对性,这是必要的。我们有技术,但我们需要完成它,为它做所有的扩展,然后坡道。这是它变得商业化。这是一个巨大的挑战。现在,我可以选择成为注意力更集中。所以,这是一个很好的情况下,IMS。

SE:很明显,建立一个新的和复杂的工具是困难的和花费很多钱,对吗?

Platzgummer:融资是一种分心,如果你是一个小公司。有了新主人,我们是在一个不同的阶段。所以我们前进。很快,这个行业将会有一个新产品。它将解决许多问题。

SE:让我们来谈谈技术。今天,面具制造商使用单光束eBeam工具基于变量形梁(VSB)技术模式或写面具。IMS推出mbmw - 101年,世界上第一个商业多波束面具的作家。针对7海里,mbmw - 101采用多光束写一个面具。什么IMS的工具带的聚会吗?

Platzgummer:它将帮助解决的复杂性光掩模设计。当然,有吞吐量问题。我们的吞吐量是远远高于VSB工具即使在一个简单的设计。10小时,而也许30小时VSB工具。这是突破。这是一个范式转变,我们总是希望完成。

SE:什么类型的口罩我们谈论吗?

Platzgummer:有不同的情况。如果EUV来了,似乎多波束是绝对必须处理写时间。这同样适用于逆光刻技术或教师,以及非常激进的OPC。这就是写次杀死VSB工具。也只是分辨率增强,多波束更好,原因有两个。首先,你有一个较小的光学模糊比VSB工具。然后,我们可以使用高剂量。另一个增值的决议,因为您可以使用一个non-CAR还是更好的拒绝让你的模式。

SE: IMS的多波束面具作家工具开发花了很长时间,对吧?

Platzgummer:它花了很长时间,这是艰苦的工作。如果你还记得我第一次去BACUS,我第一次演讲是在2007年。四年前,我们有漂亮的图案。这是不容易从一无所有到拥有一个产品。许多人认为我们有很好的工程师,但我们不能构建工具。现在,我们有一个工具和客户评价。

SE:一段时间以前,IMSα工具。阿尔法工具和生产系统相似的梁计数和其他特性,对吧?

Platzgummer:这个工具仍然有262144束。这是512 x 512。这是梁的数组。大小,或者我所谓的刷,是82微米。最重要的是,该产品已经工作。我们现在在不同的阶段。

SE: IMS也与JEOL达成协议。IMS开发多波束和write-engine技术。JEOL在平台和舞台上工作。这笔交易还在吗?

Platzgummer:我们仍非常接近与JEOL干活。

SE:有什么新的生产工具?

Platzgummerdatapath公司。新datapath公司主要是比旧的快10倍。没有其他重大变化的体系结构。速度的10倍的增强给你一些吞吐量的提高。你也可以生成更多的冗余层。

SE:所以你提升了datapath公司从12 - 120 gbps。这是为什么重要?

Platzgummer:它的吞吐量。12 g工具并不优于VSB工具。对于复杂的模式,是的。VSB工具可能需要40到60小时来写一个复杂的面具。但对于多模式,整个层分为子层,VSB工具是在一个良好的局面。这张照片计数下降了。以便帮助VSB工具来满足生产率规格过去一年。在这个意义上,全层的工具,我们之前升级是不错,但它不是一个突破。120克工具是一个突破,因为这是明显快于VSB工具。

SE: 120 g版本的工具能做什么?

Platzgummer:它可以编写任何模式以及全层,ILT和激进的OPC。所以它可以写任何你想要的速度显著提高。

SE:还有什么?

Platzgummer:多波束的作家,我们建造它,将使教师更多的复杂性,激进的OPC也许调皮捣蛋的面具。所有的事情进行了调查。但通常不采用,因为写的时间点是不支持任何合理的制造这样的面具。

SE: EUV掩呢?

Platzgummer:数量几乎爆炸EUV拍摄。这是因为EUV在一层有很多信息。此外,它需要OPC。似乎EUV掩需要多波束。这也是为什么我们收到了极大的兴趣。

SE:教师呢?

Platzgummer:教师将广泛使用市场上如果我们的工具。现在,就我的理解,教师只有在使用一个简单的表单Manhattan-type的结构。但教师,就像有些人从四年前开始显示,是一个圆形和曲线结构。他们用多波束可以打印。这应该使改善光刻或改进source-mask优化。所以你可以使用多个灯饰,然后添加花哨sub-resolution结构不花费你写的面具。

SE:行业总体上这是什么意思?

Platzgummer:这里的关键是:创造力应该成长很多。没有吞吐量借口面具看起来简单。在我看来,这打开了意想不到的机会。但现在还不是完全清楚的社区。它需要看到这些通用的模式可以帮助设备和产量。

SE:你什么时候开始销售新工具?

Platzgummer:现在,我们的可以提供的工具行业和客户交谈,谈订单。在2017年,我们将开始销售市场的工具。

SE:仍有挑战IMS和它的新工具,对吧?

Platzgummer:该工具还需要证明它真的带来了什么。设备和光刻人民需要了解它能做什么。这就是为什么人们喜欢一个早期的工具。他们想要开始测试它。他们想要看看它的表现。OPC需要测试。

针对其多波束SE: IMS是7海里的工具。NuFlare单梁VSB工具的主要供应商,也是针对7海里的新系统。technology-multi-beam或VSB-will被用于掩盖生产7海里?

Platzgummer我将承担。它将取决于行业的反应。

SE:还有其他的想法吗?

Platzgummer:当我开始的时候,有人告诉我:“我们不需要它。然后,有些客户是早一点决定,他们需要一个多波束面具的作家。现在,有一个完整的共识,多波束是必要的。

SE:你能使用IMS工具10 nm面具和上面吗?

Platzgummer:你可以把它应用到节点。但它不是一个好市场,不过,对于我们现在。VSB工具行业使用。所以对我们来说,入口去了前缘,启用新性能、新模式。从长远来看,一旦这个工具可用,人们会发现他们可以使用它为任何节点。

SE:和你的新工具,IMS谈到写作一个面具在10个小时。与所有类型的面具吗?

Platzgummer:任何一种模式。

SE:你能写超过10个小时?

Platzgummer:你可以写超过10个小时。目前,我们有10个小时的模式。在某种程度上,它变得更加困难,因为有像温度的影响。

SE: VSB不会多波束的结果,对吧?

Platzgummer:有一个号码,和一个模式密度,VSB好处。那里绝对是一个模式密集VSB将继续有意义的地方。这是好的,有一些重叠。这对每个人来说都很好。

SE: NuFlare也在开发一个多波束面具的作家,这是针对5 nm节点。IMS在多波束NuFlare前有多远?

Platzgummer我不能评论。但是,当然,我们非常重视他们。我们只能看自己的路线图。和投放市场的时间是非常重要的。也许该行业会高兴,最终有两个供应商。

SE:让我澄清一些事情。我猜想,IMS将出售其其他面具制造商,而不是英特尔的工具,对吧?

Platzgummer:这显然是说给所有的合作伙伴。我们是一个独立的子公司,但我们将整个面具市场服务。我们是绝对不会在任何方面仅使用英特尔处理器的供应商。

SE:在演讲期间,IMS谈到下一代系统。那是什么呢?

Platzgummer:我们插入第一个工具。然后,每两年,我们将升级到下一个节点。规格会下降。我没有看到从一代又一代的大问题。

SE:一段时间以前,IMS暗示它可能使用它为直写光刻技术来开发一个系统。有什么想法吗?

Platzgummer:首先,重要的是要得到多波束面具作家工具启动并运行。它实际上是一个挑战对于我们处理增长和这项技术可靠地交付给客户。目前,分心是错误的做法。

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