如何提高覆盖计量的准确性和鲁棒性1 xnm设计。
覆盖(OVL)计量测量和结果报告的质量很大程度上取决于所使用的测量设置值。例如,在散射测量OVL (SCOL)计量一个具体的目标可以测量多个照明装置,包括一些切趾法选择,两种激光偏振和多个可能的激光波长。
并不是所有可能的设置适用于计量方法不同的设置可以产生明显不同的性能方面的报道OVL值的准确性和鲁棒性。找到一个最优测量设置需要极大的灵活性,以允许高分辨率景观映射(映射OVL的依赖,其他指标,和细节的瞳孔图像测量设置)。这个方法,可以随后分析景观和选择一个准确、可靠的测量设置。选择一个最优的测量灵敏度设置复杂的计量差异等制造过程(过程变化)层厚度的变化或属性的目标对称。计量景观变化过程的变化和保持最佳性能可能需要连续测量设置的调整。
这里我们提出一个方法的选择和调整最优测量设置。点击阅读更多在这里。
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