为什么这个替代连续腐蚀被视为原子层沉积的重要组成部分。
原子层蚀刻(ALE)是一种技术去除薄层材料的使用顺序反应步骤自限性。啤酒在实验室研究了超过25年。今天,它推动了半导体行业的另一种选择连续腐蚀和被视为一个重要的原子层沉积。当我们进入量子尺寸的时代,需要有统一的啤酒领域通过增加有效性学术界和产业界之间的合作,并帮助使过渡从实验室到工厂。有鉴于此,本文提供了定义标准啤酒,连同澄清一些这个领域的术语和假设。增加的理解过程中,硅ALE描述的机械的理解是案例研究,包括plasma-assisted处理的优点。跨越超过25年的历史概述提供硅,以及啤酒研究氧化物,III-V化合物,和其他材料。在一起,这些过程包括各种各样的实现,都遵循相同的啤酒的原则。而重点是定向腐蚀各向同性啤酒也包括在内。作为本文的一部分,作者也解决功率脉冲的作用作为一个前任啤酒和研究前景的啤酒制造先进的半导体器件。
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