执行官的洞察力:埃尔Platzgummer

半导体工程坐下来讨论光掩模光刻技术趋势和埃尔Platzgummer, IMS奈米制造的首席执行官的奥地利供应商多波束电子束面具编写应用程序的工具。

SE: IMS运往世界第一多波束电子束系统。最初针对光掩模的写作,目前正在测试的工具。花了多长时间来开发这项技术吗?

Platzgummer:这是一个漫长的道路。我记得在2008年做演示。我们一开始用幻灯片幻灯片和谈论一个概念验证工具。现在,我们已经展示了工具。

SE: IMS为什么不存在任何关于新工具在最近的数据相比光掩模会议9月?

Platzgummer对我们来说:这不是正确的时间。但是我们计划显示结果为新工具。它将最有可能在学报或下一个会议。

SE: IMS和JEOL合作开发多波束电子束工具。有什么工具集成过程的状态JEOL吗?

Platzgummer:它会比预期的更好。没有挫折。JEOL提供了平台和舞台。他们的技术已经定制的工作与我们的多波束和write-engine技术。我们的多波束技术是一个256 k梁系统。事实上,512年到512年。

SE:接下来是什么?

Platzgummer:明年我们将提供一个升级最终生产力。但没有建筑或重大变化所需的系统了。我们的系统很稳定。然而,我们还没有在市场上。所以我们需要让客户相信我们的技术有必要的正常运行时间和其他问题。

SE:这个工具带的聚会吗?

Platzgummer:它使更复杂的模式,光掩模。它使写下时间几小时或至少一半的一天,而不是一天或更多,我们看到今天的单梁电子束系统。的拍摄数量的增加对于今天的面具,我们需要去更高的剂量。我们的工具使高剂量。

SE: IMS的多波束工具准备10 nm或7海里面具?

Platzgummer:在10纳米,我们的技术会带来价值。但规范系统的设置和优化7海里。

SE:多波束面具作家会取代今天的单梁电子束工具吗?

Platzgummer:我不认为VSB消失。但是一旦建立了多波束在客户网站,他们将减少使用VSB密度较低的模式。

SE:你还能说什么IMS工具?

Platzgummer:它表明,多波束可以工作。当然,还有其他有趣的应用程序如果多波束可以工作。直写就是一个例子。但直写仍然是一个方法。挑战是巨大的,但它仍然是可以做到的。

SE: IMS开发一个能直写光刻工具与当前的技术?

Platzgummer:可能需要大量的工作从我们今天直写工具。但是面具写作,我们相当先进。

SE:你mask-writing工具使多个模式时代?

Platzgummer:在多个模式,你需要更多的面具。您还需要更复杂的面具。在这个意义上,多波束面具作家可以写着魔似的面具或计算密集型逆光刻面具。所以如果EUV继续被推迟,和行业扩展了光,我们可以作出重要的贡献。

SE: EUV吗?

Platzgummer:如果EUV来了,面具将复杂的模式与更高的密度。与EUV,需要各种类型的修正的EUV模式。您可以使用多波束的作家。但面具与EUV写作并不是大问题。EUV有许多其他问题,如接触工具,源代码,掩盖供应链和材料。

SE: ASML发展扩展EUV变形镜头。根据定义,一个变形镜头产生不平等的放大以及两个轴互相垂直。在EUV,变形镜头将支持0.5到0.6 NAs。与技术、光掩模行业仍然可以利用今天的6英寸的面具。这将如何影响产业面具?

Platzgummer:这听起来很有趣,但它也复杂。很难谈下一代如果当前一代仍在研发中。这个行业想要先EUV解决当前一代。

SE: NuFlare,单梁电子束工具的领先供应商,正在开发一个面具多波束系统生产。评论NuFlare多波束电子束的努力吗?

Platzgummer我不熟悉他们的程序。我们假设他们正在研究它。我们正在等待他们的第一个规格出现在未来的会议。但我们应该有一个上市时间优势。

SE:让我们回到为直写光刻应用多波束。更多的想法吗?

Platzgummer:我们有想法如何我们现有架构迁移到直写架构。这是或多或少保持同样的概念,你将成千上万的梁视为一个光束。所以从光学方面,是很相似的。梁的复杂性来自于密度和数量和它们是如何交换。但这还不够。你需要几个轴或列并行操作。最终,您将需要多个系统或集群数组中该行业想要什么,这可能是每小时200晶片。甚至每小时100晶片是非常具有挑战性的。如果可以减少吞吐量一点,它将使它更容易。

SE:有几家公司正在开发多波束电子束直写光刻技术的应用程序。这些努力在市场上任何想法吗?

Platzgummer:如果你认为预期吞吐量100晶片的一个小时,我今天没有看到一个可信的方法。现状之间的差距,我们需要在三年内太大了。也有太多的问号是否能工作。有几套很大。我们的计划可以应用于直写吗?是的。但是,这不是一个安全的赌注是否可以使它成为一种经济上可行的工具。

SE: IMS会开发一个工具为直写光刻应用程序?

Platzgummer:我们感觉非常的浓厚兴趣。所以我们有一些低级通信与感兴趣的各方。但是现在,IMS的面具的写作重点是100%。如果我们成功地创建一个面具写业务两年,然后我们可以考虑下一步。直写是一个巨大的一步。为此,我们正在考虑与很强的伙伴工作在一个大财团。不能通过一个小奥地利公司,仍然有很多面具来完成写作。

IMS SE:接下来是什么?是公司在收购和IPO吗?

Platzgummer:我们正准备推出第一个面具作家创造的收入来源。我们正在建设掩盖编写业务。我们需要强有力的战略伙伴。然后,我们将会看到。IPO是感兴趣的,但问题是何时何地?关于收购,你不能计划。我们现在正在朝着这个方向不开车。我们专注于技术和创造价值。