下一代光刻技术选择设备

通过马克LaPedus——4月18日,2019 -评论:2

芯片制造商增加极端紫外线(EUV)高级逻辑7纳米光刻技术和/或5海里,但EUV光刻并不是唯一选择在桌子上。一段时间,业界一直致力于各种各样的其他下一代光刻技术,包括新版本的EUV。每种技术都是不同的,针对不同的应用程序。有些人今天,w……»阅读更多

执行官的洞察力:埃尔Platzgummer

通过马克LaPedus11月- 13,2014 -评论:0

半导体工程坐下来讨论光掩模光刻技术趋势和埃尔Platzgummer, IMS奈米制造的首席执行官的奥地利供应商多波束电子束面具编写应用程序的工具。SE: IMS运往世界第一多波束电子束系统。最初针对光掩模的写作,目前正在测试的工具。如何朗……»阅读更多

通过马克LaPedus10月- 16,2014 -评论:2

五年前,英特尔敦促行业投资数百万美元的光掩模的基础设施来帮助使极端紫外线([gettech id = " 31045 "评论= " EUV "])光刻。当时,有明显的差距EUV,即没有缺陷面具和检验工具。然而,迄今为止,英特尔的行动呼吁产生了不同的结果。光掩模行业做课题……»阅读更多