看看布局的影响同时SMO的逻辑和SRAM的设计风格。
源优化面具(SMO)需要延长使用193水浸没式光刻22纳米技术节点。尽管SMO正在积极推动这项技术在批量生产布局设计的影响没有被公开讨论。摘要布局设计风格的影响同时SMO的逻辑和存储器进行了研究。尤其是改善模式控制pdBRIX提供的基于模板的设计方法及其符合ASML Tachycon SMO和Flexray源将被突出显示。
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