博客评论:3月26日

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抑扬顿挫的理查德·戈林看着测试驱动开发以及惠普工程师应用UVM-e。有一个视频赞同它,,专注于软件开发。

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如果你错过了上周的制造、设计与测试简报,这里有一些值得注意的博客:

执行主编马克LaPedus花了几天时间与人交谈,听演讲相比,但并不是所有的头条。

光刻技术专家马克·大卫·利文森写道,如果设计者可以站的所有规则四模式,道路是明确到10纳米甚至超越。

导师图形”大卫阿伯克龙比显示了如何最大化双重模式错误调试的效率。

应用材料的巴拉特Ramakrishnan检查两个最大的挑战可穿戴electronics-thick形式因素和电池寿命。

专家模式迈克·瓦茨发现在诸多方面正取得显著进展以惊人的新材料。

Semico研究的米歇尔Prunty说标准是非常缺乏聪明灯,但是节能的可能性通过智能管理工具是巨大的。

半的凯文阮指出,在450毫米标准正在取得进展,有19个标准迄今为止出版。



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