指责光子没有提供最先进的节点发生的事情的全貌。
作为以前讨论的散粒噪声是一个重要的贡献者,线边缘粗糙度。然而,一篇论文的标题把它:“不要总是责怪光子。”
线边缘粗糙度的化学放大抵制最终取决于photoacid生成和单体的去抵制的基地。光子吸收的抵抗只是引发一系列事件导致去。特别是在EUV抗拒,吸收光子电离一个单体,引发一连串的二次电子排放,反过来,触发photoacid代。photoacid分子的扩散距离定义了“去模糊。”
乍一看,似乎越来越多的去模糊允许更多的光子为每个特性作出贡献。在拍摄noise-driven粗糙度模型中,这将是一件好事。然而,随着扩散距离变得相对于特征尺寸大,化学对比较少暴露和未曝光区域。此外,增加模糊影响的最终决议抵制。类似地,如果分数基单体的抵抗增加,需要更多的photoacid去达到同样的程度。再次,photoacid分布,散粒噪声,最终定义了抵制的线边缘粗糙度。
不幸的是,将线边缘粗糙度photoacid发电机分布不把行业任何接近一个粗糙的解决方案。散粒噪声提出了一个棘手的问题,因为小数量的EUV光子在任何给定的区域将是随机分布的,不一定符合所需的特性的轮廓。也是相同的,然而,photoacid发电机分子,抵制基单体和其他因素。正如克里斯麦克曾说过,解决线边缘粗糙度需要抵制的非随机的行为。
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