分子层腐蚀;“肾上腺脑白质退化症”的保形性;irp。
分子层腐蚀
美国能源部阿贡国家实验室领域的新进展分子层腐蚀或腐蚀(标定)。
大中型企业相关原子层腐蚀(ALE)。用于半导体行业,啤酒有选择地删除目标材料在原子尺度在不损害其他部分的结构。
啤酒与原子层沉积(ALD)。在退化,系统存款一次一层材料。ALD和啤酒处理无机电影,据阿贡国家实验室。相比之下,企业可用于去除有机电影,据研究人员。
假设你想要删除层晶片上的电影。在标定系统,脉冲气体注射在真空室。室由晶片。
第一气体(气体)对薄膜在晶片的表面。第二个气体(天然气B)是注入系统。重复这个过程,直到所需的厚度从这部影片,据阿贡国家实验室。
来源:阿贡国家实验室
在实验室里,阿贡国家实验室测试使用alucone标定。Alucone,有机材料类似于硅橡胶,可用于灵活的电子产品。
首先,lithium-containing盐化合物注入一个标定系统。然后,三甲基铝(TMA)复合注射。TMA是一种有机金属铝化合物。
“蚀刻过程导致的删除0.4 nm /周期alucone在160°C和3.6海里/周期266°C的alucone非原位蚀刻硅片实验,”据研究人员材料的化学技术杂志。“这无卤蚀刻过程使蚀刻MLD的电影和提供了新的制造途径控制几何图形在纳米尺度上的材料。”
马提亚年轻,密苏里大学的助理教授和前阿贡国家实验室的博士后研究员,说:“我们能够控制物质在纳米尺度上的种类是有限的工具我们要添加或删除薄层材料。分子层蚀刻是一种工具,允许制造商和研究人员精确地控制薄材料的方式,在微观和纳米级,被删除。”
“企业有可能帮助开创新途径制造和控制纳米材料的几何图形,从而打开新的大门在微电子和超越传统的摩尔定律扩展,“阿贡的化学家说杰夫拦。
“肾上腺脑白质退化症”的保形性
原子的限制,一个博客网站,关注ALD和啤酒,贴了一篇新论文,提供了见解保形性薄膜生长的退化。
本文着眼于电影保形性退化过程与基本参数,如反应概率。它还描述了一种分析模型,它提供了洞察力增长过程的这些参数。
“最重要的一个信息是,反应物分子的损失通过表面吸附和表面复合似乎相似,但是增长导致截然不同的行为,”据Karsten艺术,欧文·凯塞尔和H.C.米努的博客。“这是解释后的三个部分。首先,肾上腺白质退化症患者保形性建模的一般方法,在坚持概率和复合概率方面,。然后,我们展示如何把概率决定了在热驱动ALD增长机制。最后,我们将演示如何重组概率可以限制电影正形血浆ALD期间,我们注意,血浆ALD能产生正形电影。”
这个博客是一个主动的等离子体与材料处理小组的成员在埃因霍温科技大学。
irp
2020年IEEE国际可靠性物理研讨会(irp),一个技术会议,关注最新的微电子学研究的可靠性,将在达拉斯,德克萨斯从3月29日到4月2日。
irp包含众多的话题。它还将拥有一批重点课程强调小说和新兴领域的电子可靠性,以及主题与传统半导体、集成电路、微电子组装的可靠性。
重点课程涉及下列主题:碳化硅设备可靠性;神经形态计算可靠性;集成电路的可靠性和老化;和可靠性在射频/毫米波/ 5克。
”研讨会计划扩大超出了传统领域的互补金属氧化物半导体元件,电路和系统可靠性包括新兴微电子可靠性的话题,包括电路可靠性和老化,宽禁带半导体,神经形态计算可靠性、和射频/毫米波/ 5 g设备可靠性、反映行业的主要趋势,”查尔斯·Slayman说irp 2020技术项目的椅子上。“此外,今年irp是特权为全体会议有五个主题演讲人来自工业和学术界。”
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