多个过滤方法可以减少污染物,但对EUV拒绝并不是唯一的问题。
萎缩的特征尺寸和更复杂的光刻方案增加光刻过程的各个方面的压力,包括拒绝和抵制过滤。
克林特·哈里斯,副总裁和总经理对液体微污染控制Entegris解释说,晶圆厂正在抵制制造商向更严格控制污染物和凝胶等“软粒子”。
EUV抵抗是昂贵得多比ArF抗拒。虽然可能会下来EUV光刻成本达到生产和产量增加,抵抗的价值总额的份额上升过程。增值带来增加抵抗质量审查,或拒绝处理和存储实践和抵制的交付流程的工具。
严格规范迫使晶圆厂重新考虑许多标准抵制处理程序。例如,哈里斯说,晶圆厂通常不认为的空气污染物,但是微气泡可以阻碍了统一的抵制发展,导致光学工件,并有助于特征粗糙度,等等。Entegris是检查过滤器体系结构以减少泡沫。抵制包等BrightPak可以帮助挤出残余空气,减少泡沫的形成。
除了泡沫,许多共同之处光刻技术缺陷可以直接追溯到光刻胶。粒子可能会导致接触孔堵塞或失踪。不溶性凝胶可以弥合线应该是不同的。过滤器可以去除这些缺陷前体在很多方面。
混合过滤
“筛选”过滤器只是抓住更大的粒子通过毛孔,不允许他们通过。较小的膜孔降低流速,毛孔无法去除所有污染物。相反,大多数滤波器设计的筛分作用机制的基础上,结合膜的表面能材料。例如,尼龙是一个极性材料,因此其表面吸附许多常见的污染物。其他表面处理可以捕获金属或促进阳离子或阴离子分子的捕捉。
使用吸附技术要求与抵制供应商密切合作,以了解对基础化学过滤的效果。这种合作随着抵制配方的发展尤其重要。例如,一些JSR抗拒使用更亲水表面抵抗改善defectivity不需要面漆。改变聚合物骨干提高抵抗对比和线宽粗糙度。然而,这个新成分可能影响抵制与过滤器或化学分发线的相互作用。
而颗粒和污染物可能化学亲和力的膜材料,抵制组件可以。例如,胺淬火化合物可以吸附到尼龙膜。另一个常见的过滤介质,聚四氟乙烯,具有高度的亲和力的非离子fluoro-chemical表面活性剂用作水准代理一些抵制。
因为这些代理出席低,物质的浓度,吸附的过滤器会影响行为的抵制。通常,工厂将丢弃前几公升的抵制通过一个新的过滤器,为了让过滤器表面达到平衡的抵制和消除任何污染或泡沫期间推出的过滤器的变化。随着抵制成本上升,不过,晶圆厂正试图减少这种浪费的根源。
劳尔拉米雷斯,Entegris光刻过滤业务主管指出,晶圆厂越来越关注如何快速过滤器被影射,湿,并准备好运行过程晶片,抵制安装过程消耗的体积。过滤器必须很干净的,但仍有潜在的缺陷由于化学过滤。
最近负面基调抗拒吸引一些额外的关注,特别是对EUV。能够选择之间的正面和负面的拒绝允许制造商选择明视场和暗场面具对于任何特定的层,补偿透镜光晕和其他光学异常。过滤的作用在减少桥梁缺陷在积极的语气拒绝了,负面的语气拒绝则较少受到关注。
桥梁缺陷产生原因公开抵制物质无法溶解在开发人员。在负面的语气拒绝使用有机developer,桥梁缺陷前体颗粒应该是亲水的,可以被一个亲水的尼龙膜。积极的语气拒绝,相反的情况发生。疏水性成分不溶于碱性开发者,但可以通过疏水HDPE膜被困。
过滤的重要性,有可能被夸大。在一个特定的膜类型或设计可以提供优越的保留特定缺陷的来源,抵制本身仍然是最大因素模式质量。
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