台积电的丹平彭看着历史这个技术障碍。
有哪些历史曲线进行障碍吗?
丹平彭,台积电的董事,反映在他的早期参与教师的发展和遇到的三个主要障碍在发光在小组讨论与业内专家eBeam倡议的年度事件在2021年学报先进光刻技术会议。在主题中,小组讨论了历史的障碍和权衡曲线进行改善焦深(自由度)和增加光掩模写次使用一个变量形状eBeam (VSB)作家(图1)。在这长达六分钟的视频节选虚拟事件,丹平彭曲线得出的主要障碍包括很大程度上是通过GPU加速和多波束面具作家。
图1:讨论的历史曲线进行权衡在学报2021年eBeam倡议小组。
去年7月,行业杰出人物代表的42家公司参加了来自半导体的生态系统2020年eBeam倡议名人的调查。这些名人被要求反映在多个问题包括广泛他们认为教师是如何被使用在2020年。多数意见是,至少有几个关键层使用教师(图2),这意味着教师只是用于热点?只能告诉你这么多但我们调查小组成员能够更深入地讨论这个问题在以后的博客为您提供更多的信息。
图2:eBeam倡议调查结果反映出灯具的使用教师的意见。
我们将继续探索问题曲线形状的面具在这个博客的未来部分。多波束面具作家如何处理曲线形状,在多大程度上该行业将采用曲线形状除了热点,以及EUV掩是否会使用曲线的形状将由专家解决NuFlare技术、微米技术和d2除了台积电。如果你不能等待,你可以看到完整的90分钟的小组活动在这里。
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