EUV大测试;俄罗斯多波束;苹果的代工业务;6项。
极紫外(EUV)光刻技术在经历了无数的延误和挫折后，终于有了转机吗?EUV的最大考验可能在于台积电．“台积电订购了两个新的EUV工具(从ASML)，预计将总共使用四个EUV工具(包括两个新订单)用于其10nm工艺(可能是一层，在2016年或2017年增加)。在我们看来，EUV还远未做好广泛采用的准备，但最近的进展令人鼓舞，如果台积电在10nm技术上取得成功，可能会引发更快速的行业采用。太平洋皇冠证券他在一份新的研究报告中写道。“(台积电)计划将其现有的两个EUV工具升级到最新的NXE:3350B平台。这将成为一个重要的证据，证明EUV是否能够投入生产，或者问题是否会持续存在，并造成进一步的采用延迟。”
Mapper光刻已经选择了spt技术”化学气相沉积(CVD)系统映射器的莫斯科的新工厂式生产设施。Mapper将使用SPTS的深度反应离子蚀刻(DRIE)模块来创建具有高尺寸精度的穿硅孔，这是其无掩模光刻技术生产电子束透镜的关键要求。Mapper还为fab选择了SPTS的等离子体增强型CVD系统(PECVD)。
报道，三星电子已经同意生产下一个应用程序处理器在代工的基础上苹果，据韩国时报．三星将与三星合作生产芯片GlobalFoundries。
总部位于北美的半导体设备制造商公布了季度业绩6项比10月份为0.93半．9月份为0.94。
效果显著推出了新的多功能参数测量单元(PMU)模块T2000 PMU32E，以增强其T2000平台在测试数字、模拟和电源管理片上系统(SoC)设备方面的能力。
全球平板电脑市场有望看到2014年经济大幅减速数据显示，中国经济同比增速从2013年的52.5%放缓至7.2%国际数据公司(IDC)．这种放缓的核心原因是，人们预计2014年苹果iPad出货量将首次出现全年下滑。
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EUV扭转了局面?越南战争的形势一直在恶化。超音速运输也是如此。具有讽刺意味的是，EUV(电子射线)和无掩模(电子束直写)文章并排出现。学者们曾说服风投，光刻技术快要没油了，但风投不愿投资x射线或电子束直写技术，所以他们换了名字。从那时起，数十亿美元投资于EUV/x射线和无掩模/电子束直写。至少ASLM还在为他们看不到的每一个不赚钱的EUV/x射线工具销售至少两台盈利的193i扫描仪。但Mapper有250名员工，却没有销售。这怎么可能呢?谁是更大的傻瓜?
很难看到EUV只对一层有用。如果一个层需要它，那么几个层将需要相同的分辨率。4个10纳米的工具，远远少于28纳米的浸入式扫描仪，每月超过10万片晶圆。英特尔将在2015-2016年生产10纳米芯片，台积电也缺乏第一个将EUV用于10纳米芯片的市场动力。