使用曲线形状增加进程窗口高级内存。
你有四分钟听为什么像美光科技公司认为曲线形状光掩模是一个优势?在短视频,高级主管Ezequiel罗素掩模技术在微米技术显示了曲线形状可以增加进程窗口高级内存如图1所示。视频是一个更长的小组讨论与业内专家eBeam倡议的年度活动期间有先进光刻会议2021年2月。在本例中,85%的改善焦深(景深)。听到Ezequiel自己的话说,一个完整的描述的4分钟的视频你可以看到虚拟的事件在这里。
图1:美光科技的好处的例子为先进的内存显示曲线形状面具eBeam倡议虚拟事件在2021年有先进光刻技术会议。
每年,eBeam倡议进行调查,提供有价值的见解形成半导体行业的主要趋势。去年7月,业界名人代表42来自半导体公司生态系统参加了2020年eBeam倡议名人的调查。绝大多数的受访者认为曲线形状将使用面具,到2023年,至少部分,如图2所示。这是惊人的,因为不是说今天许多曲线形状是用在光掩模。这是一个巨大的变化预计几年内的名人。
图2:小组成员在一个eBeam倡议虚拟事件在2021年学报先进光刻会议讨论2020年名人调查结果对曲线形状。
在这个博客在接下来的几个月里,我们将听到专家在台积电,NuFlare技术,和d2除了美光科技为我们探索问题的挑战曲线形状光掩模,业界正致力于解决方案如何曲线等数据格式,以及是否EUV掩将使用曲线形状。我们最后的博客看看可能会改变不仅制造半导体芯片的设计使用曲线形状。如果你不能等待,你可以看到完整的90分钟的小组活动在这里。
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