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标签:球兰

光掩模在成熟节点出现短缺
通过马克LaPedus- 2022年4月21日-意见:2

成熟节点对芯片的需求激增，加上这些几何形状的光掩模制造设备老化，正在引起整个供应链的严重担忧。这些问题最近才开始浮出水面，但对于对芯片生产至关重要的掩模来说，这些问题尤其令人担忧。28nm及以上掩模的制造能力尤其紧张，这推动了…»阅读更多

新一代掩模的未解决问题
通过马克LaPedus- 2022年2月17日-评论:0

专家会议:半导体工程公司坐下来讨论光学和EUV掩模问题，以及掩模业务面临的挑战，DNP研究员Naoya Hayashi;Peter Buck，西门子数字工业软件MPC和掩模缺陷管理总监;Hoya技术战略高级总监Bryan Kasprowicz;以及D2S首席执行官藤村昭。f…»阅读更多

3nm及以上的掩模挑战
通过马克LaPedus- 2022年1月25日-意见

专家会议:半导体工程公司坐下来讨论光学和EUV掩模问题，以及掩模业务面临的挑战，DNP研究员Naoya Hayashi;Peter Buck，西门子数字工业软件MPC和掩模缺陷管理总监;Hoya技术战略高级总监Bryan Kasprowicz;以及D2S首席执行官藤村昭。f…»阅读更多

为什么掩码空格很重要
通过马克LaPedus- 2021年10月21日-评论

Hoya Group的Hoya LSI总裁Geoff Akiki与Semiconductor Engineering公司坐下来讨论光学和极紫外(EUV)光刻以及掩模坯。以下是那次讨论的节选。掩模坯料是作为掩模的基板或衬底的组件。为什么它们很重要?Akiki:如果你看看Hoya，我们一直被定位为……»阅读更多

EUV在3nm及以下的不确定未来
通过马克LaPedus- 2020年5月21日-意见:5

几家晶圆代工厂已经将极紫外(EUV)光刻技术转移到7nm和5nm的生产中，但现在业界正在为3nm及以上技术的下一阶段做准备。在研发方面，该行业正在为下一个节点开发新的EUV扫描仪、掩模和电阻。3nm计划在2022年推出，然后在一两年后推出2nm。尽管如此，这将需要大量资金……»阅读更多

一周回顾:制造，测试
通过马克LaPedus- 2019年12月20日-评论:0

Lam Research战略营销董事总经理David Haynes在一篇博客中谈到了物联网和汽车芯片市场，这些市场是在广泛的技术节点上制造的。Hoya最近主动提出以14亿美元收购电子束掩模发生器和其他设备供应商NuFlare。点击这里了解更多信息。Hoya使几个p…»阅读更多

EUV面具空白战斗酝酿
通过马克LaPedus- 2018年11月15日-评论:2

在极紫外(EUV)光刻市场的斜坡中，EUV掩模坯料的供应商正在扩大其生产。而一个新的参与者——应用材料公司——正在寻求进入这个市场。AGC和Hoya是两家主要的EUV掩模坯料供应商，他们正在增加用于EUV掩模的这些关键部件的产能。蒙版空白可作为photomas的基底。»阅读更多

3D NAND的下一步是什么?
通过马克LaPedus- 2018年1月18日-评论

2018年，业界需要密切关注3D NAND，因为供应商基础正处于一些重大变化之中。这些变化涉及几家合作伙伴，包括东芝/西部数据和英特尔/美光。这也影响了其他3D NAND厂商，即三星和SK海力士。但首先，由于系统. ...中数据的冲击，对NAND闪存的需求仍然强劲»阅读更多

本周回顾:制造业
通过马克LaPedus- 2017年12月15日-评论:0

芯片制造商苹果公司宣布了其10亿美元先进制造基金的最新奖项。光通信组件制造商Finisar将从苹果公司获得3.9亿美元的资金。该合同将使Finisar公司能够增加其研发支出和垂直腔面发射激光器(VCSELs)的大批量生产。VCSEL是一种半导体激光二极管。…»阅读更多

本周回顾:制造业
通过马克LaPedus- 2017年12月8日-评论:0

据彭博社(Bloomberg)等媒体报道，应用材料公司(Applied Materials)的四名前员工因涉嫌试图窃取该公司自己的Fab工具技术设计而被美国政府起诉。据报道，这些前雇员涉嫌试图将这项技术出售给一家中国初创公司，后者将与Applied展开竞争。前雇员——梁C…»阅读更多

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