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在微处理器设计空间中利用多代理RL (Harvard,谷歌)


哈佛大学和谷歌研究小组的研究人员发表了一篇题为“微处理器设计空间探索的多智能体强化学习”的新技术论文。微处理器架构师越来越多地求助于特定领域的定制,以追求高性能和能源效率。随着系统变得越来越复杂,微调变得越来越复杂。»阅读更多

基于2d材料的电子电路(KAUST和TSMC)


KAUST材料科学与工程副教授Mario Lanza博士和TSMC公司研究员Iuliana Radu刚刚发表了一篇题为“由2D材料制成的电子电路”的特别版文章。这特刊涵盖了21篇文章,从领先的主题专家,从材料合成和他们的集成在微/纳米电子器件和c…»阅读更多

Rowhammer:近期发展和未来方向(苏黎世联邦理工学院)


苏黎世联邦理工学院的研究人员发表了一篇题为“从根本上理解和解决RowHammer”的新技术论文。摘要:“我们概述了RowHammer漏洞的最新发展和未来发展方向,该漏洞困扰着现代DRAM(动态随机内存访问)芯片,几乎所有的计算系统都将其用作主存储器。RowHammer是……»阅读更多

基于交叉杆结构的可扩展光学人工智能加速器


华盛顿大学的研究人员发表了一篇名为“使用PCM进行AI加速的可伸缩相干光交叉条架构”的新技术论文。摘要:“光计算最近被提出作为一种新的计算范式,以满足数据中心和超级计算机中未来AI/ML工作负载的需求。然而,到目前为止,提议的实现遭受缺乏sc…»阅读更多

基于内存的网络攻击变得更加复杂,难以检测


存储器正在成为网络攻击的切入点,引发了人们对系统级安全的担忧,因为存储器在电子产品中几乎无处不在,而漏洞很难被发现。黑客瞄准了几乎每一个消费者、工业和商业部门,以及越来越多连接到互联网和相互连接的设备,这种情况还没有结束的迹象。根据……»阅读更多

晶圆清洗成为制造3D结构的关键挑战


晶圆清洗,曾经是一个非常简单的任务,就像将晶圆浸入清洗液中一样简单,现在正成为制造GAA fet和3d - ic的最大工程挑战之一。随着这些新的3D结构——有些即将出现,但有些已经在大批量生产中——半导体晶圆设备和湿式清洗业务的材料供应商处于震中……»阅读更多

深入了解先进的DRAM电容器模式:使用虚拟制造的工艺窗口评估


随着设备的不断扩展,由于较小的特征尺寸和较大的工艺步骤可变性,工艺窗口变得越来越窄[1]。在半导体开发的研发阶段,一个关键的任务是选择一个具有较大工艺窗口的良好集成方案。在晶圆测试数据有限的情况下,评估不同集成方案的制程窗口可以…»阅读更多

用于DRAM应用的金属氧化物抗蚀剂(MOR) EUV光刻工艺


针对DRAM应用,本文报道了利用金属氧化物抗蚀剂(MOR)制备EUV抗蚀剂的关键工艺技术。对于MOR,减少金属污染和CD均匀性(CDU)是曝光后烘烤(PEB)的关键性能要求。基于多年的经验与旋转型Inpria MOR,我们设计了一种新的PEB烤箱,以实现污染…»阅读更多

通过过程窗口建模寻路


在先进的DRAM中,设计紧密封装模式的电容器以增加电池密度。因此,可能需要先进的制版方案,如多重蚀刻、SADP和SAQP工艺。在本文中,我们使用SEMulator3D®中的虚拟制造和统计分析,系统地评估了包括SADP和SAQP模式在内的DRAM电容器空穴形成过程。…»阅读更多

内存-计算解耦执行以实现理想的全银行PIM性能


韩国高丽大学的研究人员发表了一篇题为“使用标准内存接口实现全银行In-DRAM PIM的性能:内存-计算解耦”的新技术论文。“本文提出了内存计算解耦的PIM架构,以提供与全库PIM相当的性能,同时保留标准DRAM接口,即DRAM命令,功率…»阅读更多

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