特定的测量方法可以是不准确的,即使他们精确,有已知的错误与某些系统参数有关。
计算光刻技术的解决方案依赖于准确的流程模型忠实地代表了成像系统输出一组定义的过程和设计输入。反过来,这些模型依赖与扫描仪相关联的多个参数的准确表示,光掩模。虽然某些系统输入变量,如扫描仪数值孔径,可以根据经验调整晶片CD数据在假定设置点在一个小范围内,这样做是非常危险的因为CD错误可以跨多个输入变量的别名。因此,许多模拟输入变量是基于设计或recipe-requested值或独立测量。但是,某些测量方法,而精确,可以是不准确的。此外,有已知的错误与某些系统参数的表征。减少总CD控制预算,适当的占所有来源的错误变得更重要的是,和累积的结果输入错误计算光刻模型可以成为重要的。在这项工作中,我们将研究与模拟敏感性研究,光掩模的影响的错误表示属性包括CD偏见、圆角、折射率、厚度、和侧壁角。最关键的因素是准确地代表模型中编目。CD偏差值是基于最先进的面具制造业数据和其他变量变化推测,强调提高计量和意识的必要性。
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