研究人员开发铜薄膜,永久性的抗氧化,因为它们由平面,只有偶尔的单原子步骤。
文摘
“氧化可以恶化铜的特性,对它的使用至关重要,尤其是在半导体行业和光电技术的应用。这促使许多研究探索铜氧化和可能的钝化策略。原位观察,例如,表明氧化涉及加强表面:Cu2O增长发生在平面由于铜吸附原子分离的步骤和扩散在梯田。但即使这种机制解释了为什么单个水晶铜比多晶铜的耐氧化、平铜表面可以是免费的氧化还没有进一步探索。这里我们报告铜薄膜的制造,永久性的抗氧化,因为它们由平面只有偶尔的单原子步骤。采用基于计算确认单原子步骤边缘一样不受氧平面,表面吸附的O原子镇压一次表面氧面心立方(fcc)里站点覆盖率已经达到50%。这些组合解释ultraflat铜表面的特殊抗氧化性能影响。”
找到开放获取这里的技术论文。2022年3月出版。
金,中华民国金,Y.I.,Lamichhane, b . et al . Flat-surface-assisted和自动调整的抗氧化性能的铜(111)。大自然603年,434 - 438 (2022)。https://doi.org/10.1038/s41586 - 021 - 04375 - 5。
访问半导体工程的这里的技术论文库和发现更多的芯片行业学术论文。
imec的计算路线图;美国目标华为;美印。特遣部队;China-Bolivia交易;力量发泄白光干涉测量系统;三星量化可持续性;麦肯锡标识在美国工厂建设问题;发光二极管。
留下一个回复