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谈论黑硅

没什么精益14 nm设计。

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今年1月,我文章对黑硅引用的工作迈克尔·泰勒和他的研究小组在加州大学圣地亚哥分校。我无法安排采访泰勒博士在那篇文章,但本周早些时候我们确实有一段对话。他指出,进一步降低阈值电压都受制于设备泄漏,电路所消耗的能源是由简历²,电容乘以电压的平方。电容继续下降,能源减少,在他看来,成为持续扩展的经济驱动力。

结果需要管理和利用黑硅给设计师带来重大挑战。异构硬件引入了新的复杂性,而使用的设计“面料”将lithography-driven特性数组优化个人设备限制了设计师的能力。和未来可能会带来更多的复杂性。一个新边疆是需要优化电路,减少能源消耗,根据目标应用程序的工作负载。另一个是潜在的设计创新落后于生产过程。如他所说,没有什么“精益”设计14纳米硅。创业公司和新产品可以减少他们的初始成本使用老技术现场试验的想法,然后切换到新流程需求的增长。

所有这些和更多的讨论在完整的采访中,快到了。



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