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晶体管在3nm达到临界点


半导体行业正在进行十多年来新晶体管类型的首次重大变革,转向称为全门(GAA) fet的下一代结构。虽然GAA晶体管尚未上市,但许多业内专家都想知道这项技术能持续多久,以及会有什么样的新架构取代它。除非有重大延误,今天的GAA…»阅读更多

生产时间:11月2日


《微/纳米图案、材料和计量学杂志》(JM3)发表了一篇论文,概述了光刻路线图和未来15年的各种挑战。这篇被称为“设备和系统光刻路线图的国际路线图”的论文预测,极紫外(EUV)光刻和下一代版本将仍然是最重要的。»阅读更多

引领半导体产业


半导体技术的进步一直是最成功的工程壮举之一,该行业在指数曲线上的时间比历史上任何时候都要长。这也是一个高度保守的行业,它摒弃了许多颠覆性的变化,而倾向于将风险最小化的小增量变化。在过去的几十年里发生了重大的变化,这些变化往往需要一个…»阅读更多

焦点转移到架构


芯片制造商越来越依赖于架构和微架构的变化,将其作为在一系列市场、工艺节点和价格点上提高功率和性能的最大希望。虽然关于[getkc id="74" comment="摩尔定律"]死亡的讨论早在1微米制程节点之前就开始了,但毫无疑问,即使是最大的芯片制造商也越来越难以实现这一目标。»阅读更多

如何在包中构建系统


半导体行业正在竞相制定一系列路线图,以取代ITRS创建的路线图,其中包括一个专注于异构集成的全新路线图。ITRS将不再更新。最新的条目将建立异构多模设备和系统集成的技术目标。它有IEEE的组件,包装和…»阅读更多

路线图的重要性


半导体行业现在正式将目光投向pc和服务器之外,为现有和发展中的细分市场建立指标和指导,而不是仅仅关注如何进入下一个工艺节点。IEEE的设备与系统国际路线图标志着行业的根本性转变。自引入3D传输技术以来,随之而来的不确定性…»阅读更多

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