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标签:Cymer

点评:制造业的一周
通过马克LaPedus——6月23日,2017 -评论:0

芯片制造商NAND闪存市场也在不断变化。不久前,陷入困境的东芝将其内存单元。最后,该公司已选定的一组购买其内存业务。该财团包括日本创新网络公司、日本开发银行和贝恩资本(Bain Capital)。竞争对手SK海力士也是集团的一部分。其他人试图投标业务,包括西方该…»阅读更多

ASML买爱马仕
通过马克LaPedus- 6月16日,2016 -评论:0

希望拓展新市场,ASML Holding已经进入一个协议收购爱马仕电子束晶片检查专家维视(HMI)在现金交易价值27.5亿欧元(合30.8亿美元)。的收购台湾HMI,阿斯麦公司将进入两个新市场——晶片检查以及面具检查极端紫外线光刻技术(EUV)。在…»阅读更多

EUV取得进展吗?
通过安Mutschler- 18,2015 -评论:4

由安Steffora Mutschler &埃德·斯珀林EUV已经承诺了几十年,指望至少也是三个流程节点,并认为自22纳米芯片制造的关键。已经投资了数十亿美元的研发、工程团队来自世界各地的发展,作出了贡献,仍然存在严重的问题。只是距离…»阅读更多

不是所有的科学问题都能得到解决
通过埃德·斯珀林- 18,2015 -评论:0

在20世纪早期的心理学家卡尔·拉什利去寻找并研究记忆的痕迹,人类大脑的记忆存储中心。他一直没能找到。事实上,他甚至最终证伪的理论一个印迹存在,这是更重要的比如果他大脑的理解证明存在的印迹。超过6年的结果……»阅读更多

更严格的CD需要更严格的激光带宽
通过凯瑟琳德比郡2月24日,2015 -评论:0

担心的带宽光源光学光刻技术可以影响模式质量并不新鲜。没有完全无色差:透镜材料的折射率随波长,因此不同波长将集中在不同的点。色差成为更严重关切与宽带汞的更换灯具发出激光……»阅读更多

先进光刻:摩尔定律继续
通过马克·大卫·利文森3月- 20,2014 -评论:1

每2月,nano的专家模式技术的融合在圣何塞,展示他们的路线图,头脑风暴和结果有先进光刻技术研讨会。有比以往更多的困惑,今年部分会议的结果标记(但美丽的)新会展中心的舞厅,但主要是由于行业差异。这不再是一个年代……»阅读更多

光刻的重置按钮
通过马克LaPedus- 3月21日,2013 -评论:0

由马克LaPedus在持续的延迟和挫折,极端的紫外线(EUV)光刻和多波束电子束都错过了10 nm逻辑节点。所以目前,芯片制造商必须采取强力的路线在10纳米与多个成像通过使用193 nm液浸式光刻技术。现在,是时候点击重置按钮。对于7 nm节点,芯片制造商目前正在排队石印竞争……»阅读更多

Cymer的EUV团队有一个令人兴奋的几个月
通过迈克尔·瓦茨3月- 14,2013 -评论:0

由Michael pc瓦在学报先进光刻,Cymer宣布一些严重的EUV源码开发进展,几个亮点之一。最新的结果提供40 w的权力运行8小时,模仿完整产品包括剂量控制条件。据我所知,40 w相当于大约30 - 300毫米晶圆一个小时。Cymer源使用二氧化碳激光与3 ampli……»阅读更多

光学光刻技术,取两个
通过马克LaPedus- 2月21日,2013 -评论:0

由马克LaPedus业内公开的秘密。极端紫外线(EUV)光刻错过的初始阶段10 nm逻辑和1 xnm NAND闪存节点。芯片制造商希望插入EUV 10 nm的后期或7海里,但供应商并不指望EUV在短期内和准备他们的后备计划。除非一个突破与EUV或其他技术,集成电路……»阅读更多

摩尔定律重新审视
通过埃德·斯珀林- 10月25日,2012 -评论:0

毫无疑问,摩尔定律可以继续为更多的后代。英特尔的路线图已经延伸到5 nm,最有可能与碳纳米管场效应晶体管、隧道场效应晶体管,石墨烯tsv甚至完全耗尽SOI取代散装CMOS。其余的行业一直挂一两个节点,滑翔的什么英特尔和IBM这样的公司,三星和STMicroel……»阅读更多

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