马克·大卫·利文森

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马克·大卫·利文森是一个独立的光刻技术专家。

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额外的!额外的!阅读所有!
通过马克·大卫·利文森- 2月26日,2015 -评论:1

ASML宣布他们将薄膜业务在2月25日下午2点在圣何塞有先进光刻技术研讨会。这些不是你的花园各种塑料薄膜薄膜,请注意,而是EUV 50 nm厚的多晶硅薄膜,制成的薄膜拉伸帧可以连接,删除并接了EUV掩上。卡门Zoldesi博士ASML揭示……»阅读更多

参观未来在克莱奥
通过马克·大卫·利文森- 7月17日,2014 -评论:0

克莱奥-激光与光电学会议的介绍了激光的最全面的快照和光子学的应用程序。提出的三个专业协会(阻塞性睡眠呼吸暂停综合症,APS和IEEE光子学)上个月在圣何塞举行。虽然很少有主题的主流半导体产业的今天,一个没有发现影响和潜在的synergi太远…»阅读更多

先进光刻:摩尔定律继续
通过马克·大卫·利文森3月- 20,2014 -评论:1

每2月,nano的专家模式技术的融合在圣何塞,展示他们的路线图,头脑风暴和结果有先进光刻技术研讨会。有比以往更多的困惑,今年部分会议的结果标记(但美丽的)新会展中心的舞厅,但主要是由于行业差异。这不再是一个年代……»阅读更多

在2013年斯坦福大学光子学
通过马克·大卫·利文森- 10月17日,2013 -评论:0

每年九月,斯坦福大学光子学研究中心及其合作伙伴在苏格兰大学和工业激光应用中展示的最新发展校园研讨会在帕洛阿尔托,加州,今年“非凡的粒子加速器的发展,主要包括污染检测、生物医药等领域,对社会影响通过增加美国…»阅读更多

从过去的教训架构战争
通过马克·大卫·利文森——2013年1月24日——评论:0

由马克·大卫·利文森在硅谷有一个有趣的IEEE小组讨论最近,审查的微处理器架构的战争的70年代,80年代和90年代。英特尔x86架构怎么变得如此占主导地位,当有其他能力的设计,包括更高效的RISC(精简指令集计算机)芯片?x86如何克服竞争Zilog, M…»阅读更多

一个淘气的缪斯
通过马克·大卫·利文森9月- 20,2012 -评论:0

由马克·大卫·利文森Moorissa高科技的女神,可是喜欢玩恶作剧,其年度会议是9月10日这一周在蒙特雷。开始很久以前…例如,面具制造商刚学会了如何写准确1 x面具与花哨的电子束比晶片印刷行业去减少步进,否定所有公关的优势……»阅读更多

艾薇桥解决旧的赌注
通过马克·大卫·利文森8月- 16,2012 -评论:0

回想七年至2005年。那些与房地产市场繁荣时期上升,美元高,65 nm节点芯片在地平线上和EUV大未来光刻的希望。EUVL迟到了下一次(45 nm)节点,但是一个伟大的新想法似乎gap-water浸扫描填充193 nm曝光!但可以湿193纳米光刻走多远EUVL或者一些新事物,如…»阅读更多

平社区满足和选票
通过马克·大卫·利文森- 7月31日,2012 -评论:0

每18个月左右,IEEE满足光刻技术领先的灯光在一个非正式的研讨会,讨论国家和未来的我们的工艺。今年的活动发生在弗吉尼亚州威廉斯堡殖民地恢复辉煌的六月。主席末底改罗斯柴尔德和Lars Liebmann组装技术程序,不仅对半导体光刻技术制造,但是……»阅读更多

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