中文 英语

标签:ASML

粒子从EUV光掩模
通过技术论文链接——8月31日,2022 -评论:0

这个技术论文题为“AFM-Based Hamaker常数测定与盲目提示重建”只是荷兰阿斯麦公司的研究人员发表的亚琛工业大学和AMO GmbH是一家。粒子的研究报告是真空AFM-based方法去除EUV光掩模。发现这里的技术论文。2022年8月出版。Ku, B。,凡德维特灵F。博尔顿,J。Stel, B。van de K……»阅读更多

覆盖会跟上EUV模式如何
通过劳拉·彼得斯- 09年8月,2022 -评论:1

覆盖计量工具提高精确度,而提供可接受的吞吐量,应对竞争的需求在日益复杂的设备。在一个永远不会结束的比赛,产品覆盖公差为尖端设备正在迅速萎缩。在个位数纳米范围3海里的一代(22纳米金属球)设备。新覆盖目标、机器学习和im……»阅读更多

周评:制造、测试
通过凯伦·海曼——7月29日,2022 -评论:1

美国国会批准了芯片,一个庞大的两党成就《纽约时报》称为“数十年来最重要的政府干预产业政策。”过去了,全包——现在被称为芯片和科学行为——包含半导体行业的直接援助520亿美元,还有240亿美元的税收优惠。此外,该法案c…»阅读更多

电子束IC缺陷检测生长的作用
通过凯伦·海曼7月- 12,2022 -评论:1

永久的迈向更小的特性,再加上对芯片寿命更长更好的可靠性不断增长的需求,已从一个相对模糊的高架检查但必要的技术到工厂和包装最重要的工具之一。多年来,检查被陷害了电子束之间的战斗和光学显微镜。不过,越来越多的其他类型的高级警官……»阅读更多

周检查、制造、测试
通过苏珊兰博- 08年7月,2022 -评论:0

美国试图限制销售ASML深紫外线(DUV)光刻系统,根据彭博社的一份报告。美国一直在限制中国获得先进的技术,和它已经有限的销售极端紫外线(EUV),这是用于开发芯片在最先进的流程节点。相比之下,DUV用于older-nod……»阅读更多

High-NA EUV可能比看起来更亲密
通过凯瑟琳德比郡- 6月16日,2022 -评论:1

High-NA EUV有望使扩展到埃水平,为芯片与更高的晶体管数量和一个全新的工具,材料,和系统架构。在最近有先进光刻技术会议上,马克·菲利普斯光刻硬件和应用解决方案的主管英特尔,重申公司的打算部署技术在高…»阅读更多

创业融资:2022年5月
通过杰西·艾伦- 06年6月,2022 -评论:0

可能是另一个强大的月中国继续推动建立一个本地半导体的生态系统。超过一半的月总资金去创业。超过一半的公司资金也来自中国,包括两个FPGA公司,三个使cpu、GPU启动,众多网络和无线芯片公司。其中两个,在fpga和cpu,提高轮年代……»阅读更多

周评:制造、测试
通过琳达·克里斯坦森——5月27日,2022 -评论:0

Broadcom宣布将收购云计算和虚拟化公司VMware以约610亿美元的现金和股票,VMware和承担80亿美元的净债务。如果一切按计划进行,Broadcom软件集团将作为VMware重塑和操作。“合并后的解决方案将使客户,包括领导人在所有行业纵向市场,更多的选择和灵活性,运行,米……»阅读更多

周评:制造、测试
通过埃德·斯珀林——4月29日,2022 -评论:0

财报季,尽管被广泛报道的能力问题和短缺,芯片行业了相对可靠的结果。英特尔超过1月指导Q1,报告第一季度GAAP营收为184亿美元,较上年同期下降7%,较上年同期下降1%非公认会计原则的基础上。记录收入实现了在网络和边缘集团……»阅读更多

周评:制造、测试
通过埃德·斯珀林——4月22日,2022 -评论:0

陆上和供应链供应链努力修补缺陷通过移动更多的美国和欧洲制造业在岸生成大量的嗡嗡声。张忠谋,TMSC创始人称这些举措是“一个非常昂贵的徒劳无功之举,”布鲁金斯学会(Brookings Institution)的一次采访中,战略与国际研究中心补充说,它就像……»阅读更多

←旧的文章 新帖子→

  • 赞助商

关于

导航

与我们联系

版权©2013 - 2023 SMG |服务条款|隐私政策
Baidu