而有前途的一系列的网络应用,光子集成电路提供一个独特的验证的挑战。
硅光子学是一种很有前途的解决方案数据量的爆炸性增长,在计算和通信网络流量。硅光子学集成光子学应用程序放置在硅片上,利用主流Si-based技术。光子集成电路(PIC)提供了优于传统的集成电路:更快的数据传输速度,更低的功耗和更小的足迹。云数据中心、汽车激光雷达和移动/可穿戴设备是一些最近的硅光子学市场增长的主要动力。
光子集成电路设计提供一个独特的挑战物理设计流程的验证。图片设计布局包含组件要求光滑曲线有效地运作,与传统的集成电路设计,使用曼哈顿和450几何图形。光子电路需要曲线形状和特殊弯曲限制,引导和指导。结果,图片设计采用等多种曲线结构波指南,欧拉弯曲,环过滤器等。验证这种刚果民主共和国non-Manhattan布局与传统方法结果大量错误的错误,无法调试。
EDA工具的理想曲线形状转化为离散多边形GDS网格,从而导致不准确的近似。刚果民主共和国得到更准确的结果,runsets应该增强图片设计的具体规则定义曲线的正确处理,布局几何图形。例如,公差因子控制检测弯曲段的几何和消除错误的错误在non-45边检查(图1)。
图1:Non-45学位形状
细分辨率设置有助于捕捉真正的误差区域,否则可能错过了在最小空间检查(图2)。准确的刚果民主共和国检查图片设计的非传统布局等规则角度检查,需要特殊考虑最小/最大,最小/最大距离,最小/最大空间,外壳,最小/最大宽度和部分重叠。
图2:最小空间检查——的例子
此外,理解方法和好的调试流含有大量的虚假违规行为至关重要。例如,检查间隔很长曲线形状可能报告几个短违反形状为一个错误。定义适当的连接设置在runset将产生一个连续错误的形状和在调试的过程中避免不必要的复杂性。设计师也可以使用内置的豁免方法排除选择放弃规则和无关紧要的检查。图片的设计可以有一些有效的结构(例如,光耦合器)runset违反一个预定义的规则。这种结构可以显著的布局被排除在检查,从而消除冗余调试。
总之,清洁和全面的物理验证光子集成电路的设计也有可能在今天上演。建立工具,如集成电路验证器可以可靠地验证硅光子学的独特布局和设计风格的设计,已用于设计tapeouts大大减少设计时间,提高tape-out信心。
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