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技术论文

发光v坑:发光富铟InGaN量子点的另一种方法

利用InGaN材料中存在的缺陷,制造具有显著更高铟浓度的InGaN量子点的实用方法。

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文摘:

实现全固态白光发射器件需要高效率的蓝色、绿色和红色发射器。然而,通过传统的量子阱生长来提高长波长的iii族氮化物发光器件的低量子效率仍然存在挑战。在这里,我们展示了一种新的直接金属有机化学气相沉积方法,使用v坑在Si衬底上生长富含in的InGaN量子点,绕过了对模式化或非常规衬底的需要。一项有关交叉v坑的光学、组成和结构特性的相关纳米尺度研究表明,高度织构的表面从自发形成InGaN量子点的金字塔顶点产生局域高强度红移发射。我们建立了这种高效长波长发光的起源,这是由于空间限制的高in含量沉积,以及较小带隙能量的基础层错被圈闭在一个低发射率棱镜层错环内。我们在Si上的单片生长方法将为实现cmos兼容的无磷白光发射固态器件开辟新的途径。”

把这技术论文在这里。公布的09/2021。找到在这里总结

钟静阳,张莉,Sarah A. Goodman, Jinkyu So, Govindo J. Syaranamual, Tara P. Mishra, Eugene A. Fitzgerald, Michel Bosman, Kenneth Lee, Stephen J. Pennycook和Silvija gradeovic
ACS光子学20218(10) 2853 - 2860


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