离子束溅射的方法对生产环境中氟化物的电影。
爱子的颂歌,Veeco仪器
深紫外波长的薄膜涂层主要由蒸发方法(热和Ebeam)。性能的限制因素消失了电影包括表面粗糙度,孔隙度、吸收和缺陷密度。提高电影,他们通常沉积在衬底温度过高(超过300°c)从沉积产生的热应力对冷却温度往往限制了这些电影在氟化物基质沉积。努力提高氟化物薄膜沉积的质量和性能包括离子束溅射的使用。在离子束溅射的能量就减少了一些氟原子在溅射过程中,弥补了这一缺陷引入氟基气体沉积环境。离子束溅射的方法氟电影适合生产环境中使用商用双离子束溅射系统提出了这项工作。由此产生的光学和材料特性以及AlF3讨论合适的基质,LaF3, GdF3电影。结果单层和多层涂层的设计。结果集中在ArF准分子激光的波长193纳米。
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