看看如何提高模拟的一致性和加快光刻技术操作。
随着技术的进步,OPC运行时是一个大问题,和大量的我们的努力是为了加快平操作。此外,OPC模拟一致性有时会恶化,这是一个关键浮现锚特性。另一方面,全芯片的设计通常包括大型阵列的基本细胞,利用OPC工程师调整OPC食谱,这是明显的例如内存和处理器芯片设计。基于模型的OPC技术是没有必要这样设计,提供的等效面具形状这些数组是已知的细胞之一。
在这项工作中,我们介绍一个综合的方法使用模型和基于模式的OPC。模式匹配是用来提取区域完整的芯片相匹配的基本设计存储在预先创建库。当发生匹配时,使用这些库中存储的OPC方案并填充在匹配区域。特殊待遇对于大型数组边界应用由于邻近效应。基于模型的OPC用于其余的芯片。这种方法有两个主要优势。首先,模拟一致性大大提高,因为OPC标准电池解决方案。其次,模式匹配是一个DRC-based工具,因此它是非常快而得病的操作,因此答更增强了。
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