ASML的EUV光刻工具最近在台积电试运行时出现了问题。
阿斯麦控股公司最初的，具有生产价值的极紫外(EUV)光刻工具在最近的台湾积体电路制造有限公司(台积电)的试运行中遭遇了挫折。
台积电在2014年加州圣何塞举行的先进光刻技术会议上公开展示了这一问题。在台积电的试运行期间，由于EUV光源内部的激光机构不对中，导致EUV光源崩溃。这反过来又导致EUV扫描仪下降。“这是激光不对中，”台积电(TSMC)下一代光刻部门经理Jack Chen表示。
据Chen说，ASML/Cymer计划解决这个问题，他仍然看好EUV。事实上，台积电仍计划在10nm节点插入EUV，尽管EUV工具存在问题。“这就是我们的目标，”陈说。
尽管如此，这一披露仍是EUV问题缠身的一系列挫折中的最新一例。EUV的许多问题都可以追溯到电源。事实上，由于电源、EUV掩模和电阻等众多技术问题，EUV仍在不断推出。
问题的根源
ASML的第一款EUV扫描器NXE:3300B最近已交付台积电。英特尔(Intel)、三星(Samsung)和其他客户也有望在今年获得该工具。EUV工具的数值孔径(NA)为0.33，放大倍数为4倍，分辨率为22nm(半节距)。
NXE:3300B，被运送到台积电，应该有一个集成的30瓦EUV源，来自ASML/Cymer。但据台积电称，在1月31日左右或之前的试运行期间，激光装置坏了，导致系统瘫痪。阿斯麦的一位发言人说，这台机器本周已经在台积电投入使用。
Chen说，尽管如此，这些问题还是对EUV源的内部组件，即收集器造成了一些损坏。EUV光源本身基于激光等离子体(LPP)技术。在LPP中，等离子体是由激光脉冲击中目标而产生的。该光源还使用了预脉冲激光器和主振荡器功率放大器(MOPA)，这将有助于产生更多的EUV功率。
该源由Cymer开发，该公司最近被ASML收购。ASML/Cymer承诺在2012年底前交付100瓦的电源。到目前为止，在实验室中，Cymer已经证明了产生40瓦和50瓦EUV功率的能力。
一个55瓦的光源转换为每小时43片晶圆的EUV吞吐量。然而，业界正在寻找80瓦的光源，这可能会使EUV在芯片生产中某种程度上可行。一个80瓦的源将实现每小时58片晶圆的EUV吞吐量。到2015年，阿斯麦公司希望能推出250瓦光源的EUV扫描仪，这意味着每小时能生产126片晶圆。
相关故事:EUV的最后期限
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“到2015年，ASML希望能推出250瓦光源的EUV扫描仪……”我的祖母曾经说过:“如果愿望(或希望)是马，乞丐都能骑。”这似乎适用于源功率的持续移动日期目标。
我认为很有可能在2015年底，他们会出货一个250w的电源。然而，在措辞中，这是一个有可能达到250瓦最大的电源(目前的规格是最高达到80瓦)，当它发货时，它不会以250瓦运行，这是一个保证。
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