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标签:nano的印记

大的变化模式
通过埃德·斯珀林2017年2月- 22(-评论:0

首席执行官阿基》[getentity id = " 22864 "评论=“d2”],坐下来与半导体工程在10纳米,下面讨论模式问题,包括面具对齐,GPU加速的需要,EUV的未来影响的面具,总数和脊髓的曲线形状将意味着设计。SE:模式问题是得到很多关注10 nm和7 n…»阅读更多

DSA怎么了?
通过马克LaPedus——5月19日,2016 -评论:2

定向自组装(DSA)直到最近一颗冉冉升起的新星在下一代光刻技术(天然气凝析液),但该技术最近失去了一些原有的光彩,如果不是它的动量。那么发生了什么?近五年前,一个名不见经传的模式技术[gettech id = " 31046 " t_name = " DSA "]横空出世,开始产生动力。在t…»阅读更多

下一代光刻技术在哪里?
通过马克LaPedus- 11年4月,2016 -评论:1

半导体工程坐下来讨论光刻和格雷格•麦金太尔光掩模技术和先进模式部门主任Imec;哈里·莱文森高级研究员和高级技术研究主管GlobalFoundries;Uday Mitra副总裁和腐蚀的业务战略和营销主管单位和模式模块应用材料;Haya直…»阅读更多

准备好Nanoimprint吗?
通过迈克尔·瓦茨——3月17日,2016 -评论:0

Nanoimprint讨论、辩论和炒作,因为这个词在1996年首次引入。整整20年后的今天,它被更严重的光掩模成本增加和延迟将替代市场。Nanoimprint光刻是像室温UV固化压印过程。在模板或结构的模具使用……»阅读更多

7纳米光刻技术的选择
通过马克LaPedus- 07年3月,2016 -评论:2

芯片制造商正在酝酿他们16 nm / 14 nm逻辑流程,预计10 nm进入早期生产今年晚些时候。除非在光刻技术取得重大突破,芯片制造商正在使用今天的193海里浸泡和多个模式16/14nm和10纳米。现在,芯片制造商关注7纳米光刻技术选项。为此,他们希望利用两种技术的结合…»阅读更多

5技术看
通过马克LaPedus——7月23日,2015 -评论:0

这个行业正在开发一个令人眼花缭乱的新技术。事实上,有比以往更多的新的和创新的技术。列表无数。至少从我的角度,我想出了自己的五大技术列表看在2015年及以后。他们按字母顺序列出。(见下文)。显然,有超过五technologi……»阅读更多

EUV仍然…但不重要
通过埃德·斯珀林10月- 16,2014 -评论:0

的喋喋不休和偶尔的长篇大论对EUV失踪的市场窗口是真的,EUV将错过了5个市场窗口10微米而是仍然很重要。,越早EUV冲击市场时可行的电力来源,整个半导体制造业将会更好。但即使EUV只是为了一些重要的变化在有技术。虽然技术上……»阅读更多

下一代光刻技术怎么了?
通过马克LaPedus- 03年9月,2014 -评论:2

芯片制造商继续3月工艺曲线。使用今天的光学光刻和多个模式,半导体行业扩展其尖端设备远远超出了曾被认为是可能的。问题是这个行业可以扩展多远193海里浸泡(getkc id = " 80 "评论=“蚀刻”)和多个模式之前,这些技术成为t…»阅读更多

等待下一代光刻技术
通过马克LaPedus1月23日,2014 -评论:2

近30年前,光学光刻应该撞墙魔法1微米的障碍,促使新模式的必要性电子束直写和x射线光刻等技术。然而,当时行业能够推动光学光刻卷芯片生产1微米的节点。反过来,这有效地杀死了直写e -…»阅读更多

制造业:10月1日
通过马克LaPedus- 01年10月,2013 -评论:0

Nanoimprint铸造新加坡* *的材料研究与工程研究所(IMRE)及其合作伙伴已经启动了一个新的研发铸造使用Nanoimprint光刻。所谓Nanoimprint铸造是一个合作几个实体,如因,东芝的机器,电动汽车集团NTT,零技术,共同社国际微抵制技术,Nanoveu和解决……»阅读更多

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