标签:Bacus

周评:制造、测试
通过凯伦·海曼8月19日,2022 -评论:0

美国商务部发布了关键技术的出口管制,包括氧化镓(Ga2O3)和钻石基质,用于在高电压和温度,以及EDA工具专门为棉酚开发的场效应晶体管。目前还不清楚这将如何影响EDA公司,因为许多的工具将用于设计棉酚在今天使用场效应晶体管已经finFETs……»阅读更多

制造业:8月10日
通过马克LaPedus8月- 10,2020 -评论:0

清洗过程EUV掩模台积电已经开发了一种新的干洗技术用于极端紫外线的光掩模(EUV)光刻,此举似乎在工厂解决一些重大问题。台积电和三星与EUV光刻技术在先进的生产节点,但是仍然存在一些挑战的光掩模和其他技术。使用13.5 nm波长,EUV……»阅读更多

毫升是怎么被用于集成电路制造吗
通过马克LaPedus- 01年4月,2020 -评论:0

半导体工程坐下来讨论这个问题和挑战与机器学习在半导体制造业Kurt Ronse在Imec先进光刻项目主任;渔洞,高级营销主任到创新;数据科学家罗曼Roux Mycronic;和阿基》d2的首席执行官。以下是摘录的谈话。第一部分…»阅读更多

接下来EUV问题:掩盖3 d效果
通过马克LaPedus- 4月25日,2018 -评论:6

随着极端紫外线(EUV)光刻接近生产,该行业更关注问题的现象称为掩盖3 d效果。3 d效果涉及光掩模的EUV面具。简而言之,一个集成电路芯片设计,从一个文件格式转换成光掩模。面具是一个给定的主模板集成电路设计。这是放置在一个光刻扫描……»阅读更多

什么EUV带给表
通过Moshe Preil2018年2月- 15(-评论:0

经过多年的听说EUV几乎准备就绪,潮水终于来了。十年的缓慢但稳定的进步导致接触工具,可以公开的1000定期一天晶片。这可能是害羞的高容量的要求制造(HVM),但它肯定足以支持坚实的发展规划和试点……»阅读更多

什么变化在BACUS
通过简•威利斯8月17日,2017 -评论:0

吉姆•威利总统相比BACUS,谈到今年的合并的EUV光刻技术研讨会和有光掩模Conference-including新的和不同的,最新的更新事件的位置,和主题期待如EUV掩模检查以及他对机器学习的预测。https://youtu.be/GNxUmMAU9zs»阅读更多

制造业:6月27日
通过马克LaPedus- 6月27日,2017 -评论:0

世界最聪明的布拉斯加-林肯大学的激光为全球最聪明的非官方记录激光。研究人员聚焦激光的亮度比太阳表面的10亿倍。完成这一壮举是使用所谓的Diocles激光布拉斯加-林肯大学的。激光的峰值功率和重复ra……»阅读更多

点评:制造业的一周
通过马克LaPedus——6月23日,2017 -评论:0

芯片制造商NAND闪存市场也在不断变化。不久前,陷入困境的东芝将其内存单元。最后,该公司已选定的一组购买其内存业务。该财团包括日本创新网络公司、日本开发银行和贝恩资本(Bain Capital)。竞争对手SK海力士也是集团的一部分。其他人试图投标业务,包括西方该…»阅读更多

更多的EUV掩模间隙
通过马克LaPedus11月17日,2016 -评论:12

极端紫外线(EUV)光刻技术是在一个关键时刻。经过几次延误和故障,[gettech id = " 31045 "评论=“EUV”]现在是针对7和/或5 nm。但仍有许多技术之前必须一起EUV插入到大规模生产。如果作品不属于的地方,EUV可能再次下滑。首先,EUV源必须产生更多…»阅读更多

周评:制造和设计
通过马克LaPedus2013年12月- 06 -评论:0

一项新的研究显示,大多数美国人做一些昂贵的失误对于他们现有的电脑的性能。调查显示,美国人缺乏金融精明当面对缓慢的电脑。德国默克公司、制药、化学和生命科学公司,与阿兹电子材料宣布了一项协议,默克公司将收购AZ ....»阅读更多

  • 赞助商

关于

导航

与我们联系

版权©2013 - 2023 SMG |服务条款|隐私政策
Baidu