文摘:总结
“磁控溅射沉积的透明电极和金属触点应用于许多最先进的光电设备，如太阳能电池和发光二极管。然而，由于等离子体发射和粒子撞击，这种薄膜的沉积可能会损坏下面的敏感器件层。插入缓冲层以防止这种损害是一种常见的缓解方法。我们通过描述溅射透明顶部电极如何成为广泛的光电子器件的原型，然后讨论溅射损伤对器件性能的可能有害后果，开始这篇综述。接下来，我们从加工-性能-性能关系的角度综述了常见的缓冲层材料。最后，我们讨论了通过对顶部电极实施替代软着陆沉积技术来消除缓冲层要求的策略。我们的审查强调了光电器件溅射损伤的关键问题，制定了缓解策略，并提供了跨领域的学习，可以导致更有效和更可靠的光电器件商业化。”
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作者:Erkan Aydin,Cesur Altinkaya,Yury Smirnov,Muhammad A. Yaqin,Kassio P.S. Zanoni,Abhyuday Paliwal,Yuliar Firdaus,Thomas G. Allen,Thomas D. Anthopoulos,Henk J. Bolink,Monica Morales-Masis,Stefaan De Wolf
出版:问题
出版者:爱思唯尔
日期:2021年11月3日
事,
第4卷第11期
2021年,
页3549 - 3584,
ISSN 2590 - 2385,
https://doi.org/10.1016/j.matt.2021.09.021。
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