摘要
“机械应力在纳米片fet的制造过程中得到了证明。特别是，在通道释放过程中，由重力引起的不必要的机械不稳定，通过3d模拟可以详细描述。仿真结果显示了悬浮纳米片的物理弱点和纳米片厚度的影响。为了提高机械稳定性，建议基于几何和弹性特性的内间隔设计。内部间隔片与纳米片之间形成宽接触面积，以及使用刚性间隔片介质材料是优选的。
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李,K.-S。;公园,J.-Y。提高纳米片fet通道释放过程机械稳定性的内间隔层工程。电子产品2021， 10, 1395。https://doi.org/10.3390/electronics10121395。发布日期:2021年6月10日
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