基于此后和标准单元库的集成设计环境加速MEMS产品开发。
MEMS-based零部件供应商想迅速坡道设计投入大批量生产。这种需求正在推动MEMS供应商,重点讨论如何更有效地重用流程步骤,堆栈或技术平台。为了满足这种需求,我们看到标准MEMS技术和设计平台的出现类似用于CMOS设计。
半导体行业和EDA供应商建立了基于此后的集成设计环境(工艺设计包),标准单元库,内存架构和IP给容易获得技术集成电路设计者和增加硅初步的成功的机会。Coventor的愿景是MEMS生态系统和MEMS EDA软件供应商应该扮演相同角色,加速MEMS产品开发。
为了满足这种挑战,Coventor开发了一个3 d MEMS-specific图书馆,参数化组件和潜在的“紧凑”有限元模型,包括刚性或弹性形状质量,电极,静电梳,悬架梁、锚,等。一个设计师可以组装这些组件来创建、模拟和优化MEMS传感器,以类似的方式,模拟集成电路设计组装晶体管,电容和电阻来创建一个示意图。最后的设计模型是高度精确,并提供大量增加仿真速度比传统MEMS设计方法,允许设计师快速探索广阔的设计空间和性能优化设计和制造业。
2017年3月,Coventor X-FAB,主要模拟/混合信号和MEMS铸造集团交付第一foundry-qualified此后X-FAB表面微机械电容式MEMS的过程(称为XMB10)。此后Coventor完全符合节奏此后提供一个集成设计环境,包括Coventor MEMS +传感器设计与仿真平台加上节奏的艺术大师的IC联合仿真平台,最终布局和物理验证。
的MEMS +此后的组件库已经定制利用X-FAB XMB10传感器过程(图1),包括材料、内在设计规则和层出口节奏大师或GDS的数据格式。
图1:设计、模型和模拟加速度计的设计使用X-FAB XMB10定制组件库在MEMS +
图2说明了梳子结构设计规则的一个例子,它可以实现MEMS +。
图2:放大梳子的手指展示设计规则约束在MEMS +的一个例子
自动的MEMS +模型导入到节奏大师模拟设计环境生成一个符号和一个网表,可以模拟与节奏幽灵或APS(图3)。
图3:加速度计模型模拟在节奏
中相应的布局PCell也产生节奏大师布局编辑器(图4)。
图4:节奏大师使用节奏此后布局
此后的节奏提供了一组互补PCells MEMS终端连接到垫和创建一个玻璃熔块债券帧在传感器和保护通道。节奏技能脚本自动生成复杂层形状和限制手动布局步骤。
一个刚果民主共和国ASSURA规则集也可以。Assura lv支持梳子的识别和传感器的连接。寄生提取已使用独有的解决发生的独特挑战实现MEMS过程特性,其中具有不同介电常数介电层存在相同级别的进程栈(例如,空气腔下面一个活动的质量,或者硅氧化物)。
这个设计平台和参考流是通过合作开发Coventor, X-FAB和节奏。该平台通过全球在2017年推出微机电系统设计大赛涉及不同的大学和研究中心的参与者。反馈从我们的选手关于他们使用这种新的设计环境是帮助提高MEMS此后三个伙伴。敬请期待听到更多关于我们的设计进步的竞争对手和他们的经验与创新的MEMS PDK-based设计平台。
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