评估检测污染物的敏感性水平像C, F, Cl与氧气在积极和消极离子模式主要的离子束。
利用二次离子质谱(SIMS)在线计量学是一个新兴的过程控制方法,需要3测量,使西姆斯在产品晶片。西姆斯的测量负离子通常与铯主要离子束。铯存在于硅,不幸的是,当它形成陷阱州如果带隙,可导致严重的渗漏问题Si-base晶体管。因此,被认为是一种非常有害的污染物铯在半导体器件。
另一方面,一个氧主要离子源,这是通常用于积极次级离子测量,是主要的梁内联SIMS的首选,因为它是良性的,而不是视为一种污染物。通过切换二级分光计极性之间积极和消极离子模式,主要一个氧离子源可以成功地用于衡量正面和负面的物种。
虽然一个氧主要离子源可能不提供相同的敏感性负二次离子铯主要离子束,能够直接测量范围的物种没有污染的风险在线SIMS应用程序创建了一个广泛的领域。
在本文中,使用一个氧主要离子源正负二次离子检测正在调查在一个在线模拟人生的工具。我们评估检测污染物的敏感性水平C、F, Cl在积极和消极离子模式主要氧离子束,以及代理物种或替代同位素的使用改善的结果。
作者:茱莉亚·霍夫曼,萨拉Okada,劳伦斯·鲁尼Bruno Schueler Ganesh Vanamu
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