新技术论文题为“审查的关键发展的里程碑重要尺寸小角x射线散射在国家标准与技术研究所的。”
文摘:
“基于x射线散射计量是20多年前作为合作的一部分,国家标准和技术研究院(NIST)国际商业机器公司(IBM)来评估性能的石印为半导体行业模式材料。这种方法治疗一系列定期的石印结构衍射光栅和集中在提取的物理维度通过分析衍射光栅的结构模式。在早期阶段的工作重点是开发传输小角x射线散射(tSAXS)作为计量工具测量的关键维度(CD)光刻集成电路芯片制造的关键特性。之后,关注的焦点转移到包括放牧事件小角x射线散射和x射线反射率作为部分CD计量工具由于其独特的功能。频繁的术语临界尺寸小角x射线散射(CDSAXS)已经被用来作为同义词使用tSAXS乳糜泻的计量测量没有提及传播。各种里程碑CDSAXS发展本文综述了与一些关于未来的增长前景x-ray-based计量为重要的复杂的三维纳米结构半导体产业。”
发现技术纸在这里。2023年4月出版。
Wen-li, r·约瑟夫·克莱恩,罗纳德·l·琼斯Hae-Jeong李,埃里克·k·林丹尼尔·f .周日Chengqing Wang Tengjiao胡,克里斯托弗·l .鞋底。发展的“审查的关键里程碑重要尺寸小角x射线散射在国家标准与技术研究院。《微/ Nanopatterning、材料、计量22日。3 (2023):031206。
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