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Nova METRION用例
通过新星- 2022年12月14日-意见:0

我们将探索Nova METRION®系统的几个用例，包括污染控制、过程偏移预防、反应器匹配和均匀性控制。这些用例的目标是检测可以杀死器件的污染物，改善屏障层和源/漏功能，保持影响下游工艺的沉积均匀性，并确保晶圆到晶圆…»阅读更多

高NA EUVL薄阻的计量
通过新星- 2022年11月16日-评论:0

高数值孔径极紫外光刻(high NA EUVL)的诸多限制之一与阻光剂厚度有关。事实上，从当前的0.33NA转移到0.55NA(高NA)的后果之一是焦点深度(DOF)的降低。此外，当抗蚀剂特征线缩小到8纳米半间距时，必须限制纵横比以避免图案崩溃。T…»阅读更多

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