ReticleSense无线设备减少十字线阴霾和支持更快的设备条件。
理解十字线阴霾:没有合适的控制措施,浸技术扫描仪受到不利影响的现象称为“阴霾。“烟雾是由三个具体因素的组合:
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现有的工具可以用于RISC-V,但他们可能不是最有效或高效。还有什么需要?
但是差距工具很难解决翘曲,结构性问题,新材料在multi-die / multi-chiplet设计。
专家在餐桌上:好的和坏的更多的数据,以及人工智能如何利用这些数据来优化设计和提高可靠性。
技术和业务问题意味着它不会取代EUV,但光子学、生物技术和其他市场提供足够的增长空间。
Gate-all-around将取代finFET,但它会产生一系列的挑战和未知。
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